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  • 立式合成

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:47:33 對比
  • 脫氧封管爐

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:46:11 對比
  • 立式HVPE

    產品信息簡介:用于在藍寶石、碳化硅等襯底上外延生長GaN薄膜、厚膜及晶體生長,及AIN等外延生長

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:44:32 對比
  • HVPE

    產品信息簡介:用于在藍寶石、碳化硅等襯底上外延生長GaN薄膜、厚膜及晶體生長,及AIN等外延生長

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:43:15 對比
  • 科研型LPCVD系統 __ 水平系列

    產品信息產品性能:◆滿足2~8(12)寸晶圓工藝◆占地面積小

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:41:14 對比
  • 垂直LPCVD系統 __ 8寸系列

    產品信息簡介:垂直氧化系統應用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領域,6、8晶圓的薄膜沉積及參雜等工藝

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:40:01 對比
  • 垂直氧化系統 __ 8寸系列

    產品信息簡介:垂直氧化系統應用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領域,6、8晶圓的氧化、合金退火等工藝

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:38:44 對比
  • 常壓晶體生長

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:37:25 對比
  • 水平氧化爐、水平擴散爐

    產品信息簡介:水平氧化爐、水平擴散爐應用于IC集成電路、MEMS、功率器件、電力電子器件、光電子器件、太陽能電池等領域

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:35:48 對比
  • LPCVD系統 __ 水平系列

    產品信息簡介:水平LPCVD系統應用于IC集成電路、MEMS、功率器件、納米技術、光電子器件等領域

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:33:48 對比
  • 快速RTP/RTO

    產品信息簡介:RTP系統用于IC集成電路,MEMS器件、光電子器件、LED、太陽能電池領域,適用于晶圓的快速熱處理工藝

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:32:26 對比
  • 水平LPCVD氧化擴散爐

    產品信息產品性能:◆滿足2~8(12)寸晶圓工藝◆占地面積小

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2021/12/7 8:30:24 對比

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