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垂直LPCVD系統(tǒng) __ 8寸系列

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更新時(shí)間：2021-12-07 08:40:01瀏覽次數(shù)：88次

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產(chǎn)品信息簡(jiǎn)介：垂直氧化系統(tǒng)應(yīng)用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領(lǐng)域，6、8晶圓的薄膜沉積及參雜等工藝
  • 產(chǎn)品信息
    簡(jiǎn)介：
     
    垂直氧化系統(tǒng)應(yīng)用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領(lǐng)域，6”、8”晶圓的薄膜沉積及參雜等工藝。
     
    產(chǎn)品性能：
     
    ◆立式結(jié)構(gòu)，高效產(chǎn)能，150片/批
     
    ◆配套標(biāo)準(zhǔn)成套工藝，滿足客戶需求
     
    ◆穩(wěn)定優(yōu)良的成膜均勻性，重復(fù)性好
     
    ◆高精度可靠的自動(dòng)壓力控制系統(tǒng)
     
    ◆微環(huán)境低氧控制*技術(shù)
     
    ◆硅片顆粒度控制穩(wěn)定，國際標(biāo)準(zhǔn)
     
    ◆高集成度，完整的工廠MES系統(tǒng)對(duì)接，符合SECS/GEM等標(biāo)準(zhǔn)
     
    配套工藝：
     
    ◆多晶硅P-Si，氮化硅Si3N4，氧化硅SiO2
     
    ◆磷硅玻璃PSG，硼磷硅玻璃BPSG
     
    ◆TEOS，LTO，HTO，SIPOS...

     
     

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