ULVAC CS-200系列磁控濺射鍍膜設(shè)備是一款追求低成本和用戶友好操作的磁控濺射設(shè)備，通過增加配有機(jī)械手d裝載固定腔室（Load lock chamber）使在上下基板時(shí)工藝腔室仍保持真空。

主要技術(shù)參數(shù)：

適用于小于8inch的各種基板；

配備300℃的基本加熱裝置，可選配600℃的基本加熱裝置；

可選配RF源；

膜厚均勻性好于±5%；

佳鼎半導(dǎo)體提供半導(dǎo)體加工設(shè)備現(xiàn)貨供應(yīng)服務(wù)，包括ASML、Nikon光刻機(jī)、愛發(fā)科刻蝕設(shè)備、蒸發(fā)鍍膜設(shè)備、沉積設(shè)備等等。