當前位置:青島佳鼎分析儀器有限公司>>產品展示>>鍍膜設備
ULVAC愛發科二手葉片式濺射設備CERAUSZX-1000與2011年投入使用,針對于8英寸晶圓使用
ULVAC愛發科多腔濺射設備EntronEXW300是在Al、Cu、高熔點金屬布線工序中有很多實績的單片式多室對應平臺
centrotherm臥式熱反應系統HORICOO200是大量現場驗證及具有多功能的臥式爐系統,基于客戶需求可靈活選擇大、中批量生產以及研發類型機臺
ULVACCS-200系列磁控濺射鍍膜設備是一款追求低成本和用戶友好操作的磁控濺射設備,通過增加配有機械手d裝載固定腔室(Loadlockchamber)使在上...
Load-lock式PlasmaCVD設備CC-200/400是小型的使用便利的可對應從研究開發到量產的設備
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業自行提供,信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業負責,化工機械設備網對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示:為規避購買風險,建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。