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SUSSMicroTec為熱門化合物半導體工藝專門設計了一款新型光刻平臺：MA100/150eGen2

SUSSMA12掩膜對準器用于工業研究和低成本生產的手動光刻機

MA/BAGen4系列掩膜和鍵合對準器——實驗室及小批量生產用小型光刻機平臺蘇斯公司的MA/BA4代系列是一代的半自動光刻和鍵合對準機，并引進了新的平臺系統

佳能KrF光刻機FPA-6300ESW采用248nmKRF曝光光源，分辨率130nm，專為12英寸晶圓設計

FPA-3030i5+步進器旨在滿足并超越物聯網和MEMS制造商的要求

FPA-3030i5a支持直徑為200毫米或更小的較小基板

FPA-3030iWa支持直徑為200毫米或更小的較小基板

光學系統曝光時間調解器：0.1至999.9秒(可調節精度0.1s)

光學系統曝光時間調解器：0.1至999.9秒(可調節精度0.1s)

FA系列全自動正/雙面對準（TSV/BSV）光刻機截止到2012年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺光刻機，50多臺單獨曝光系統

FA系列全自動正/雙面對準（TSV/BSV）光刻機截止到2012年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺光刻機，50多臺單獨曝光系統

ASML二手現貨ArF光刻機部分信息-193nm-軌道預警信號（APR）：APR啟用-避免跟蹤輸入/輸出沖突

ASML二手翻新現貨ArF光刻機AT:1100采用193nmArF曝光光源，針對于300mm晶圓處理的雙級光刻平臺

ASMLArF光刻機AT:1200作為其綜合成像設施的一部分，SUNYPoly擁有一臺TWINSCANAT:1200193nm“干式"掃描儀；（0.85NA）

ASML二手翻新現貨KrF光刻機AT:750是248nm深紫外系統

ASML推出了一種用于0.35微米成像的新型i-line光刻系統，旨在幫助客戶從0.5微米以上的制造技術過渡到更嚴格的分辨率

ASMLPAS5500/275D是一款高吞吐量i-line步進機

ASMLi-line光刻機PAS5500/450F是i-line步進器系列的、的產品之一

ASML二手翻新現貨ARF光刻機AT:1100是一款步進式ARF掃描儀，可在300mm的晶圓上進行100nm體積的生產

ASMLDUV光刻機PAS5500/750FDUV步進和掃描系統使用成熟的248-nmKrF技術實現130nm量產