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團隊介紹ASML和NIKON光刻機的翻新改造、安裝調試及維護的核心技術能力

NSR-S622DArF浸沒式掃描儀是通過進一步提高已驗證的流線平臺的準確性和生產力，用于20nm以下的高容量多模式應用

NSR-S635EArF浸入式光刻機，集成內聯對準站(iAS)，用于大容量5nm節點應用程序制造

尼康公司（東京港區總裁KazuoUshida）發布了一代尼康ArF浸入式掃描儀NSR-S631E

NikonARF浸入式光刻機NSR-S630D進一步提高了NSR-S622D的精度和生產率，它采用了以高精度和生產率著稱的流線型平臺，適用于10納米范圍內的工藝...

NSR-S621D已開發用于大批量制造22nm工藝節點（能夠通過進一步提高久經考驗的NSR-S620D的精度和生產率來處理雙圖案*1)

NSR-S320F的平臺在尼康的浸入式掃描儀中得到驗證，確保在客戶領域及早實現穩定運行和高生產率

NikonKrF掃描光刻機NSR-S210D產能達到176wph

NSR-S609B（分辨率≦55nm），用于大批量生產的ArF浸入式掃描儀，NA1.07（一臺突破NA1.0閾值的掃描儀）2006年，NikonNSR-S609...

NikonKrF光刻機NSR-S205C于2000年在新加坡生產，分辨率≤120nm

TWINSCANNXT:2000i為高級邏輯和DRAM節點的大批量制造提供出色的覆蓋、聚焦控制和交叉匹配

主要特點和優勢TWINSCANNXT:2050i建立在面向未來的NXT4平臺之上，突破了重疊限制，并為浸沒式光刻系統提供了的生產力

ASML二手翻新ARF光刻機NXT:1470采用193nmARF光源，分辨率57nm，產能300wph

asml二手現貨DUV光刻機XT:1460K采用193nmARF光源，分辨率65nm，產能205wph

ASML二手翻新現貨DUV光刻機XT:1060K，采用248nmKRF曝光光源，分辨率80nm，產能205wph

ASML二手現貨DUV光刻機XT:860M，采用248nmKRF光源，分辨率110nm，產能240wph

ASML二手現貨DUV光刻機XT:400L，分辨率350nm，產能230wph

ASML二手翻新DUV光刻機NXT:1965Ci，采用193nmARF曝光光源，分辨率38nm，產能250wph

SUSSMA300Gen2掩模對準器用于300毫米和200毫米晶圓的高度自動化光刻對準平臺

SUSSMA2003代光刻機專為大批量生產而設計，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動化加工