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主要用途高真空鍍膜設(shè)備可采用電阻加熱式蒸發(fā)源、電子束加熱式蒸發(fā)源，感應(yīng)加熱式蒸發(fā)源。可以蒸發(fā)金屬，金屬氧化物和非金屬氧化物，適用于電子工業(yè)、光學(xué)工業(yè)的導(dǎo)電膜、...

本鍍膜設(shè)備是在優(yōu)質(zhì)浮法玻璃上采用真空磁控濺射技術(shù)、孿生陰極、中頻濺射技術(shù)，并配以*的控制系統(tǒng)，鍍制SO2/ITO膜層，生產(chǎn)過程全部自動(dòng)、連續(xù)進(jìn)行

卷繞系統(tǒng)采用高精度直流或交流變頻調(diào)速、具有運(yùn)行平穩(wěn)、速度高，對(duì)原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面整齊等特點(diǎn).

設(shè)備采用*的觸摸屏和PLC集中控制,裝有電腦自動(dòng)換檔真空計(jì)和三路流量控制器,一套逆變偏壓,邊裝式加熱管四支,電腦PID自動(dòng)控溫,

整機(jī)采用計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)控制技術(shù)，配有人機(jī)界面和數(shù)據(jù)打印輸出裝置，真空系統(tǒng)全自動(dòng)控制

本廠生產(chǎn)的墻幕玻璃磁控濺射鍍膜機(jī)，采用平面磁控濺射靶，可以在大平板浮法玻璃上鍍制金屬單質(zhì)膜、復(fù)合膜、LE輻射膜，也可在小彎的弧形玻璃上鍍膜。

多功能鍍膜機(jī)具有蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜、多弧離子鍍膜等功能（用戶可以選配等離子鍍保護(hù)膜）。

磁控濺射+蒸發(fā)鍍膜設(shè)備： 立式、臥式。是一種多功能、高效率的鍍膜設(shè)備

立式、臥式。可加工的產(chǎn)品包括：手機(jī)、DVD、MP3、PDA外殼、按鍵；化妝品外殼；工藝禮品、玩具、圣誕禮品；可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、...

真空室;不銹鋼結(jié)構(gòu)[1100乘1000] 真空機(jī)組;K600A 自動(dòng)控制;PLC全自動(dòng)控制平面靶;2對(duì)圓柱靶;1只弧源;4個(gè)偏壓電源;脈沖20KW 直流磁控電源...

真空電弧離子鍍的原理是基于冷陰極自持真空弧光放電理論。在電弧源離子鍍中，以鍍膜材料作為靶極（陰極），借助引弧裝置，使靶表面產(chǎn)生弧光放電。

為了適應(yīng)真空鍍膜技術(shù)迅速發(fā)展的需要,經(jīng)過對(duì)鍍膜設(shè)備的多年的研究開發(fā),現(xiàn)已形成對(duì)客戶的各種需求均能生產(chǎn)出所需工藝設(shè)備,如裝飾膜能鍍出仿金、黑色、銀白、玫瑰紅色、紅...

多弧離子鍍膜設(shè)備是一種高效、無公害、無污染的干式電鍍?cè)O(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。

本系統(tǒng)為塑料或金屬部件表面EMI薄膜沉積單機(jī)型設(shè)備,其利用等離子體對(duì)被鍍工件表面進(jìn)行活化,采用磁控濺射方法沉積薄膜,免除涂漆前處理工藝,大幅降低工件加工成本,整...