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| 原產地: | 東莞穗誠 | ||
| 詳細說明 | 真空電弧離子鍍的原理是基于冷陰極自持真空弧光放電理論。在電弧源離子鍍中，以鍍膜材料作為靶極（陰極），借助引弧裝置，使靶表面產生弧光放電。它是一種自蒸發自離化式固體蒸發源。這種蒸發源可蒸鍍金屬材料、合金材料，也可進行反應離子鍍，如tin、tic、（tial）n、 zrn、cn等超硬膜，al、 ag、cu、mcraey等高低溫耐蝕膜、不銹鋼、黃銅、鎳鉻、（tial）n、ti、cr等裝飾保護膜等。我公司生產的多弧離子鍍膜機標準尺寸為：φ800＊1000mm, φ900＊1000mm, φ1000＊1200mm, φ1200＊1500mm。電弧源數量分別為8、10、12、14、16個,弧源尺寸：φ100或φ65并可根據用戶需要加裝磁控濺射靶、(旋轉圓柱靶或長方靶)加裝非平衡磁場等，用戶可根據自身需要選擇,也可提出特殊要求,特殊設計制造。我公司電弧源帶有磁場過濾線圈，電脈沖引弧系統，膜層細膩，*特色。 真空電弧離子鍍工作條件及相關參數： 真空度： 5x10-2pa～以上；陰極工作電壓： 60～400伏 ； 起弧極工作電壓： 300～800伏；脈沖頻率： 1—10hz | ||
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