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凱戈納斯儀器商貿(上海)有限公司


RTP-6經濟型快速退火爐

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產品型號RTP-6

品       牌

廠商性質其他

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更新時間:2022-12-11 18:53:50瀏覽次數:200次

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產品簡介

詳細介紹

RTP-6經濟型快速退火爐

RTP-6升溫速率可達80℃/s。

RTP-6采用拋物線形的黃金反射面,可均勻熱處理6英寸的圓晶。該系統可進行快速的熱處理,適合熱處理工藝的研究與開發(fā)。可用于半導體工藝中硅化物的形成以及半導體化合物的過程退火。

應用:

1. 離子注入后的活化退火

2. 沉積氧化膜的退火

3. 歐姆電極合金化

4. PZT,SBT和其它鐵電薄膜的結晶退火

5. 硅化物及自對準硅化物的生成

6. 發(fā)光元件,半導體激光基板的熱處理

7. 超淺結的生成

8. 鐵電電容器沉積

9. 柵氧化膜的生成

特點:

  • 快速熱處理
  • 腔體采用水冷,可進行快速降溫
  • 真空置換氣氛后,可采用流動氣氛進行熱處理
  • 溫度程序設置和外部信號輸入可以通過腦輕松控制
  • 加熱過程的溫度數據也可以顯示在電腦上
  • 石英保護板(可選)可以安裝在腔室內以防止污染
  • 配備了各種安全措施
  • 九個獨立的加熱區(qū)可實現不同尺寸樣品均勻的溫度控制

組成:

1. 紅外金面反射爐

2. 加熱腔

3. 可編程溫控器

4. 9個獨立的加熱區(qū)

5. 跨度變換單元

6. 氣體管路系統

7. 熱氣排出系統

8. 爐體框架,開關板

9. 高溫計(可選)

10. 水冷機(可選)

11. 真空泵(可選)

參數:

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