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凱戈納斯儀器商貿(上海)有限公司
RTP-6經濟型快速退火爐
RTP-6升溫速率可達80℃/s。
RTP-6采用拋物線形的黃金反射面,可均勻熱處理6英寸的圓晶。該系統可進行快速的熱處理,適合熱處理工藝的研究與開發(fā)。可用于半導體工藝中硅化物的形成以及半導體化合物的過程退火。
應用:
1. 離子注入后的活化退火 | ![]() |
2. 沉積氧化膜的退火 | |
3. 歐姆電極合金化 | |
4. PZT,SBT和其它鐵電薄膜的結晶退火 | |
5. 硅化物及自對準硅化物的生成 | |
6. 發(fā)光元件,半導體激光基板的熱處理 | |
7. 超淺結的生成 | |
8. 鐵電電容器沉積 | |
9. 柵氧化膜的生成 |
![]() | 特點: |
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組成:
1. 紅外金面反射爐 | ![]() |
2. 加熱腔 | |
3. 可編程溫控器 | |
4. 9個獨立的加熱區(qū) | |
5. 跨度變換單元 | |
6. 氣體管路系統 | |
7. 熱氣排出系統 | |
8. 爐體框架,開關板 | |
9. 高溫計(可選) | |
10. 水冷機(可選) | |
11. 真空泵(可選) |
參數:
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