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日立高新離子研磨系統ArBlade5000
日立高新離子研磨系統ArBlade5000能夠實現高產量，并制備廣域橫截面樣品。離子研磨系統使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表面。樣品預...

型號： ArBlade50... 所在地：上海市參考價：面議更新時間：2020/12/22 8:58:08 對比

離子研磨系統日立高新離子研磨系統ArBlade5000
日立高新電鏡制樣設備磁控濺射器MC1000
日立高新電鏡制樣設備磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極，能夠zui大限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

型號： MC1000 所在地：上海市參考價：面議更新時間：2020/12/22 8:58:08 對比

磁控濺射器日立高新磁控濺射器磁控濺射器MC1000高新電鏡制樣設備
日立高新離子研磨裝置IM4000
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！HITACHI Io...

型號： IM4000 所在地：上海市參考價：面議更新時間：2020/12/22 8:58:08 對比

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