ER2000ITO 納米高速分散機(jī)
【簡(jiǎn)單介紹】
【詳細(xì)說(shuō)明】
ITO 納米高速分散機(jī) 德國(guó)進(jìn)口分散機(jī),高剪切分散機(jī),高轉(zhuǎn)速分散機(jī),IKN分散機(jī),不銹鋼分散機(jī),分體式分散機(jī),管線(xiàn)式分散機(jī)
ITO 是一種N型氧化物半導(dǎo)體-氧化銦錫,ITO薄膜即銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜,通常有兩個(gè)性能指標(biāo):電阻率和透光率。
在氧化物導(dǎo)電膜中,以摻Sn的In2O3(ITO)膜的透過(guò)率zui高和導(dǎo)電性能,而且容易在酸液中蝕刻出細(xì)微的圖形,其中透光率達(dá)90%以上。ITO中其透光率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例來(lái)控制,通常SnO2:In2O3=1:9。
目前ITO膜層之電阻率一般在5*10E-4左右,可達(dá)5*10E-5,已接近金屬的電阻率,在實(shí)際應(yīng)用時(shí),常以方塊電阻來(lái)表征ITO的導(dǎo)電性能,其透過(guò)率則可達(dá)90%以上,ITO膜之透過(guò)率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例控制,增加氧化銦比例則可提高ITO之透過(guò)率,通常SnO2: In2O3=1:9,因?yàn)檠趸a之厚度超過(guò)200Å時(shí),通常透明度已不夠好---雖然導(dǎo)電性能很好。
高速分散機(jī)是相對(duì)于低轉(zhuǎn)速的分散設(shè)備來(lái)講的,高速管線(xiàn)式分散機(jī)有著超高的剪切轉(zhuǎn)速,zui高轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,比傳統(tǒng)的分散設(shè)備更高效!
材料達(dá)到納米尺度以后會(huì)表現(xiàn)出很多.. 納米尺寸效應(yīng).., 以零維的微觀(guān)顆粒來(lái)講, 當(dāng)顆粒尺寸達(dá)到納米尺度以后, 其團(tuán)聚效應(yīng)顯x增加, 團(tuán)聚體內(nèi)顆粒的相互吸引力也顯x增大, 分散難度變大。傳統(tǒng)的分散機(jī)對(duì)納米級(jí)*進(jìn)行分散時(shí),很難真正均勻?qū)?分散開(kāi)來(lái)。新的工藝方式是應(yīng)用*分散機(jī),高剪切分散機(jī)ERS2000系列進(jìn)行分散。
*納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團(tuán)聚,使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于zui大限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開(kāi)其團(tuán)聚體,才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。
高速分散機(jī)主要用于微乳液及超細(xì)懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時(shí)工作,乳液經(jīng)過(guò)高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同的工藝應(yīng)用。該系列中不同的型號(hào)的機(jī)器都有相同的線(xiàn)速度和剪切率,非常易于擴(kuò)大生產(chǎn)。適宜的溫度,壓力與粘度參數(shù)與DISPGRSING一樣。也符合CIP/SIP清潔標(biāo)準(zhǔn),適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。
ITO 納米高速分散機(jī) 德國(guó)進(jìn)口分散機(jī),高剪切分散機(jī),高轉(zhuǎn)速分散機(jī),IKN分散機(jī),不銹鋼分散機(jī),分體式分散機(jī),管線(xiàn)式分散機(jī)
ERS2000系列產(chǎn)品與傳統(tǒng)的設(shè)備對(duì)比
一、傳統(tǒng)設(shè)備需要8小時(shí)的分散過(guò)程,ERS2000設(shè)備1小時(shí)就可以完成,更加高效、節(jié)能。
二、傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶有分散功能的每分鐘轉(zhuǎn)速也在1500轉(zhuǎn)之內(nèi),而IKN/依肯ERS2000系列每分鐘轉(zhuǎn)速可達(dá)到5000-6000轉(zhuǎn),更加快速。超高的線(xiàn)速度產(chǎn)生的剪切力,使物料瞬間細(xì)化分散,從而獲得更高品質(zhì)的產(chǎn)品。
ERS2000系列與同類(lèi)設(shè)備的對(duì)比
一、發(fā)熱問(wèn)題。同類(lèi)設(shè)備在加工過(guò)程中,高粘物料進(jìn)入腔體后,因背壓力大而輸送效果差,導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時(shí)間過(guò)長(zhǎng)而導(dǎo)致嚴(yán)重發(fā)熱。ERS2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上,減小了背壓阻力,提高了輸送能力,減少了停留時(shí)間,降低了物料發(fā)熱的狀況。
二、多層多向剪切分散。同類(lèi)設(shè)備定、轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級(jí)多層的結(jié)構(gòu)只是單純的重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過(guò)工作腔的短路現(xiàn)象。ERS2000系列定、轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切的概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向的剪切分散,杜絕短路現(xiàn)象,超細(xì)分散更加*。
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