ER2000IKN/依肯納米*光觸媒分散機
【簡單介紹】
【詳細(xì)說明】
IKN/依肯納米*光觸媒分散機 納米光觸媒分散機,納米*光觸媒分散機,納米二氧化硅光觸媒,德國進口分散機,高剪切分散機,高速分散機,分體式分散機,管線式分散機
納米光觸媒是指在光照下,自身不發(fā)生化學(xué)變化,卻可以促進化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì),其功能就象光合作用中的葉綠素。銳鈦型納米TiO2是zui主要的光觸媒材料,當(dāng)其吸收太陽光或其他光源中的能量后,粒子表面的電子被激活,逸離原來的軌道,同時表面生成帶正電的空穴。逸出的電子具有強還原性,空穴則具有強氧化性,兩者與空氣中的水氣反應(yīng)后會生成活性氧和氫氧自由基。活性氧、氫氧自由基能將大部分有機物、污染物、臭氣、細(xì)菌等氧化分解成無害的二氧化碳和水。
世界上能作為光觸媒的材料眾多,包括*(TiO2)、氧化鋅(ZnO)、氧化錫(SnO2)、二氧化鋯(ZrO2)、硫化鎘(CdS)等多種氧化物硫化物半導(dǎo)體,其中*(Titanium Dioxide)因其氧化能力強,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定無毒,成為世界上zui當(dāng)紅的納米光觸媒材料。在早期,也曾經(jīng)較多使用硫化鎘(CdS)和氧化鋅(ZnO)作為光觸媒材料,但是由于這兩者的化學(xué)性質(zhì)不穩(wěn)定,會在光催化的同時發(fā)生光溶解,溶出有害的金屬離子具有一定的生物毒性,故發(fā)達國家已經(jīng)很少將它們用作為民用光催化材料,部分工業(yè)光催化領(lǐng)域還在使用。*是一種半導(dǎo)體,分別具有銳鈦礦(Anatase),金紅石(Rutile)及板鈦礦(Brookite)三種晶體結(jié)構(gòu),其中只有銳鈦礦結(jié)構(gòu)和金紅石結(jié)構(gòu)具有光催化特性。
*是氧化物半導(dǎo)體的一種,是世界上產(chǎn)量非常大的一種基礎(chǔ)化工原料,普通的*一般稱為體相半導(dǎo)體以與納米*相區(qū)分。具有Anatase或者Rutile結(jié)構(gòu)的*在具有一定能量的光子激發(fā)下,能使分子軌道中的電子離開價帶(Valence band)躍遷至導(dǎo)帶(conduction band)。從而在材料價帶形成光生空穴[Hole+],在導(dǎo)帶形成光生電子[e-],在體相*中由于*顆粒很大,光生電子在到達導(dǎo)帶開始向顆粒表面活動的過程中很容易與光生空穴復(fù)合,從而從宏觀上我們無法觀察到光子激發(fā)的效果。但是納米的*顆粒由于尺寸很小,所以電子比較容易擴散到晶體表面,導(dǎo)致原本不帶電的晶體表面的2個不同部分出現(xiàn)了極性相反的2個微區(qū)-光生電子和光生空穴。由于光生電子和光生空穴都有很強的能量,遠(yuǎn)遠(yuǎn)高出一般有機污染物的分子鏈的強度,所以可以輕易將有機污染物分解成zui原始的狀態(tài)。同時光生空穴還能與空氣中的水分子形成反應(yīng),產(chǎn)生氫氧自由基亦可分解有機污染物并且殺滅細(xì)菌病毒。這種在一個區(qū)域內(nèi)2個微區(qū)截然相反的性質(zhì)并且共同達到效果的過程是納米技術(shù)典型的應(yīng)用,一般稱之為二元論。該反應(yīng)微區(qū)稱之為二元協(xié)同界面。
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從上面介紹我們可以看到,*的光催化反應(yīng)過程,很大程度依靠*步的光子激發(fā),所以有足夠激發(fā)*的光子,才能提供足夠的能量,我們也可以知道,光催化反應(yīng)并不是憑空產(chǎn)生的它也是需要消耗能量的,符合能量守恒原則,它消耗的是光子,也就是光能。如果是太陽光照射光觸媒就利用太陽能,燈光就是利用光能。聯(lián)合國將納米光觸媒開發(fā)列為21世紀(jì)太陽能利用計劃的重要組成部分。
什么樣的光子能激發(fā)*呢,從理論結(jié)構(gòu)上來說,銳鈦*的導(dǎo)帶與價帶之間的間隙[我們稱之為能隙]是3.2eV 而金紅石*為3.0eV,所以金紅石需要光能大于3.0eV的光子而銳鈦需要大于3.2eV的光子。光子的能量E與波長λ(Lambda)與之具有反比關(guān)系E = h C / λ,所以可以知道波長小于380nm的光可以激發(fā)銳鈦型*。雖然銳鈦礦需要略多的能量來激發(fā),但是同樣的銳鈦礦的*光觸媒具有更強的氧化能力,所以被更為廣泛的使用。有研究表明接近7nm粒徑時,銳鈦礦要比金紅石更為穩(wěn)定,這也是很多納米光觸媒采用銳鈦型的原因。
納米*光觸媒分散機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達到普通的高壓均質(zhì)機的400BAR壓力下的顆粒大小.
納米*光觸媒分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達到微米數(shù)量級時,甚至納米級時,體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時,兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應(yīng)帶來的強勁動能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質(zhì)機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散乳化,經(jīng)過高頻管線式高剪切分散均質(zhì)乳化機的循環(huán)往復(fù),zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
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