IKA重型PLANETRON® HKV捏合機是帶有兩個雙相揉捏刀片的垂直捏合機。PLANETRON®捏合機的設計允許捏制軸在軸承上得到支撐以及在產品容器外進行密封。這便于純化合物的生產。
這些捏合機實現的*捏合和分散以內嚙合捏合刀片原則為基礎,一個刀片圍繞另一個刀片以行星運動式旋轉,同時兩個刀片進行剝離運動。這樣,強烈的增加和減少壓力和剪切力,從而能在很短的時間內完成產品的*捏合和*分散。捏合葉片懸于穩定的滾子軸承支撐,遠高于定位接觸產品。該機是由可無限變速調節的變頻器的齒輪電機驅動。
HKV系列的所有盆于冷卻/加熱和真空操作而設計。該機器*由安裝在機器附近的配電盤控制。
與臥式捏合漿相比的優勢包括捏合軸上低維護的密封件,處理zui小量的可選項和許多捏合盆的可能性。
可選項:
立式捏合機的優點概覽:
立式捏合機的應用:
IKA立式捏合機的技術參數:
Useful volume (l) | Speed of central kneading blade (rpm) | Speed of rotating kneading blade (rpm) | Drive power (kW) | 參數列表 | 圖紙 | ||
PLANETRON® HKV 1 | 0.5 | 2.3 - 23 | 10.4 - 104 | 0.12 | ![]() | ![]() | |
PLANETRON® HKV 5 | 2.5 | 1.6 - 16 | 8.8 - 88 | 0.37 | ![]() | ![]() | |
PLANETRON® HKV 25 | 12.5 | 1.5 - 15 | 8 - 78 | 1.5 | ![]() | ![]() | |
PLANETRON® HKV 50 | 25 | 2 - 16 | 8 - 64 | 2.2 | ![]() | ![]() | |
PLANETRON® HKV 100 | 50 | 1.5 - 14 | 6 - 56 | 4 | ![]() | ![]() | |
PLANETRON® HKV 200 | 100 | 1.3 - 11 | 6.5 - 56 | 5 | ![]() | ![]() | |
PLANETRON® HKV 400 | 200 | 1.5 - 12 | 6 - 48 | 9 | ![]() | ![]() | |
PLANETRON® HKV 800 | 400 | 1.2 - 9 | 6.7 - 49 | 15 | ![]() | ![]() | |
PLANETRON® HKV 1600 | 800 | 0.9 - 9 | 4.2 - 42 | 45 | ![]() | ![]() | |
PLANETRON® HKV 3200 | 1600 | 1 - 9 | 4 - 36 | 75 | ![]() | ![]() |
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