詳細摘要: 化學氣相沉積LPCVD是在低壓高溫的條件下,通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。可用于科學研究、實...
產品型號:非標定制所在地:深圳市更新時間:2023-11-14 在線留言粉碎設備 混合設備 分離設備 濃縮結晶設備 傳質設備 干燥設備 反應設備 換熱設備 制冷設備 空分設備 儲存設備 鍋爐|加熱設備 包裝機械 輸送設備 化工實驗室設備
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詳細摘要: 化學氣相沉積LPCVD是在低壓高溫的條件下,通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。可用于科學研究、實...
產品型號:非標定制所在地:深圳市更新時間:2023-11-14 在線留言詳細摘要: 等離子體增強化學氣相沉積 PECVD主要用于在潔凈真空環(huán)境下進行氮化硅和氧化硅的薄膜生長;采用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術,是沉積高質量的氮化硅、氧化...
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主營產品:高真空磁控濺射儀,高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機,高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機,金剛石薄膜制備設備,熱絲CVD,PECVD設備,LPCVD設備,分子束外延薄膜生長設備(MBE),MOCVD設備
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