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Quantum Design China(Beijing)


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超高溫高速退火爐

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)其他

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更新時(shí)間：2022-10-31 16:47:19瀏覽次數(shù)：232次

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經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：11條

所在地區(qū)：

產(chǎn)品簡介

日本Advance Riko公司推出的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，可對(duì)SiC以及其它高熔點(diǎn)材料進(jìn)行退火處理。應(yīng)用領(lǐng)域 ? SiC氧化膜的生成和激活；? 半導(dǎo)體開發(fā)與研究；? 玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等的熱處理；? 作為熱處理爐對(duì)高熔點(diǎn)材料進(jìn)行熱處理；? 陶瓷材料的熱沖擊測(cè)試。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品特點(diǎn)


? 可以在10s內(nèi)加熱到超高溫1800℃；

? 可以加熱后直接水淬；

? 紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成；

? 緊湊的桌面型設(shè)計(jì)；

? 通過USB與電腦連接，輸入溫度參數(shù)；

? 在加熱過程中，在電腦屏幕顯示溫度。


基本參數(shù)


溫度范圍：室溫-1800℃

樣品尺寸：W15mm×L15mm×T1mm

樣品支架：氧化鋁或者高純碳

加熱氛圍：多種

熱電偶：JIS B φ0.3 （W-Re可選）

設(shè)備結(jié)構(gòu)以及樣品支架：





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