SAMCO二手翻新ICP刻蝕機(jī)RIE-400iPC，是高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)，采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一個(gè)具有優(yōu)良工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性的全規(guī)模生產(chǎn)系統(tǒng)。該系統(tǒng)是直徑4英寸等小直徑晶圓的專用系統(tǒng)，可以在最小的潔凈室空間內(nèi)安裝。

主要特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)

新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"

可高效穩(wěn)定地應(yīng)用高射頻功率（2千瓦以上），并實(shí)現(xiàn)良好的均勻性。

大流量排氣系統(tǒng)

排氣系統(tǒng)直接連接到反應(yīng)室，可以實(shí)現(xiàn)從小流量和低壓范圍到大流量和高壓范圍的廣泛工藝窗口。

端點(diǎn)監(jiān)測(cè)

干涉法和發(fā)射光譜終點(diǎn)監(jiān)測(cè)儀可用于目標(biāo)薄膜厚度的終點(diǎn)檢測(cè)。

易于維護(hù)的設(shè)計(jì)

TMP(渦輪分子泵)已集成在一個(gè)單元中，便于更換。

應(yīng)用

GaN、GaAs、InP等化合物半導(dǎo)體的高精度加工

SiC、SiO?的高速加工

蝕刻鐵電材料（PZT、BST、SBT、SBT）、電極材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他難以蝕刻的材料