佳能半導體光刻設備，高分辨率/高生產率 KrF 掃描儀FPA-6300ES6a 二手翻新現貨

優勢特點：

FPA-6300ES6a 掃描儀提供高生產力

通過使用新設計的Reticle& Wafer Stages加速曝光過程，通過改進對齊順序和減少晶圓處理時間來縮短處理時間。FPA-6300ES6a 的吞吐量超過 200 wph（每小時晶圓），是之前的FPA-6000ES6a型號掃描儀的 1.6 倍。

FPA-6300ES6a 掃描儀實現行業的疊加精度

為了限度地減少曝光期間的重疊錯位和場內失真，FPA-6300ES6a采用了*的平臺振動和同步控制技術。對準范圍也得到改進，以便更準確地測量晶片上的對準標記。
此外，通過精確控制曝光區域和光罩區域的溫度，實現了業界的≤5nm的Mix&Match疊加精度。

FPA-6300ES6a 掃描儀提供高可靠性

與早期的 FPA-6000 平臺掃描儀相比，FPA-6300ES6a平臺在基本耐用性和維護要求方面提供了顯著改進，并減少了安裝時間并增加了系統正常運行時間和可用性。FPA-6300ES6a選項和升級進一步提高了覆蓋精度和生產力，提供可擴展性以支持下一代半導體制造。

參數規格