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光刻機NSR-2005 I8A用于集成電路生產(chǎn)中的微光刻工藝。是用來將掩膜版上形成的集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復投影成像在晶圓表面上。

該機含有晶圓自動傳輸系統(tǒng)、版庫自動管理系統(tǒng)、可編程掩膜版光欄、自動調(diào)焦調(diào)平、晶圓自動對準、掩膜版自動對準、鏡頭倍率控制、自動光量控制、圖形自動優(yōu)化設計計算、故障顯示報警等*功能。

將曝光掩膜版和晶圓分別裝入掩膜版庫和晶圓傳輸單元后，NSR-2005 I8A型投影光刻機將按照操作軟件設定的數(shù)據(jù)格式、工作時序自動完成包括掩膜版、晶圓的交換、自動對準、自動調(diào)焦、自動分步曝光在內(nèi)的工作過程。

設備改造后，可以適用 4/6/8 英寸藍寶石基片的自動上片進行光刻加工。

No.	項目	性能指標	備注
1	分辨率（Resolution）	≤0. 55 umμm	膠厚 1μm 條件下，達到或優(yōu)于 0.5μm 為合格
2	焦深（DOF）	0.7μm	分辨率變化10%的z 向范圍。
3	鏡頭畸變（lens distortion）	≤±80nm
4	調(diào)焦重復性（FocusCalibration Repeatability）	3σ≤120nm
5	曝光面積（Maximum Exposure Area）	20mm×20mm
6	照明光強（Exposure Power）	≥550mw/cm2	換新燈后 30 分鐘
7	照明均勻性（Illumination Uniformity）	≤±1.5％
8	掩模光欄控制精度（Reticle Blind Setting Accuracy）	＋0.4mm—0.8mm
9	套刻精度（Overlay Accuracy）	\|M\|+3σ≤110nm
10	步進重復精度（Stepping Precision）	3σ≤80nm
11	工作臺正交性（Array orthogonality）	±0.2 秒
12．	硅片預對準（WaferPre-alignmentrepeatability）	≤±20um
13	硅片傳輸成功率：	99%	100片
14	掩膜傳輸成功率：	99%