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愛發(fā)科 ICP刻蝕設(shè)備 刻蝕系統(tǒng)NE-550EXz

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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更新時間：2023-02-24 16:52:54瀏覽次數(shù)：61次

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愛發(fā)科ICP刻蝕設(shè)備刻蝕系統(tǒng)NE-550EXz現(xiàn)貨，電極的刻蝕效果好，能夠進(jìn)行正確穩(wěn)定的刻蝕重點(diǎn)效果檢測，具有維護(hù)便利、性能穩(wěn)定、產(chǎn)能優(yōu)良等特點(diǎn)

愛發(fā)科ICP刻蝕設(shè)備刻蝕系統(tǒng)NE-550EXz現(xiàn)貨，電極的刻蝕效果好，能夠進(jìn)行正確穩(wěn)定的刻蝕重點(diǎn)效果檢測，具有維護(hù)便利、性能穩(wěn)定、產(chǎn)能優(yōu)良等特點(diǎn)。

刻蝕系統(tǒng)NE-550EXz

設(shè)備優(yōu)勢

工藝重復(fù)性、穩(wěn)定性業(yè)界

解決了等離子體源天板IPC的問題，搭載Star電極及多個ULVAC

可以正確且穩(wěn)定的檢測刻蝕終點(diǎn)

可以選擇搭載光譜或光干涉型終點(diǎn)檢測機(jī)構(gòu)

操作便利維護(hù)簡單

減小維護(hù)負(fù)荷的機(jī)構(gòu)及搭載相關(guān)加熱器延長維護(hù)周期的同時，工作量減少

搭載多個加熱機(jī)構(gòu)

腔體加熱、Shield加熱、Stage控溫可有效控制工藝的穩(wěn)定性及延長維護(hù)周期

更高的等離子體密度保證更好的刻蝕效果

搭載ULVACISM電極，等離子體密度高出常規(guī)ICP一個數(shù)量級

刻蝕系統(tǒng)NE-550EXz參數(shù)表

刻蝕系統(tǒng)NE-550EXz參數(shù)表


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