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氧化擴散LPCVD爐

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更新時間：2023-02-25 08:03:23瀏覽次數：92次

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產品信息簡介：用于IC集成電路、MEMS、功率器件、納米技術、光電子器件等領域
  • 產品信息
    簡介：

    用于IC集成電路、MEMS、功率器件、納米技術、光電子器件等領域。

    產品性能：

    ◆4~8寸晶圓工藝，1~4/5管

    ◆恒溫區：800/1000/1250mm

    ◆溫度：200～1000℃

    ◆高精度可靠的自動壓力控制系統

    ◆全自動機械手裝卸，懸臂/軟著陸

    ◆晶圓自動倒片，完整的工廠MES系統對接，符合SECSⅡ/HSMS/GEM等標準

    配套工藝：

    ◆多晶硅P-Si，氮化硅Si3N4，氧化硅SiO2

    ◆磷硅玻璃PSG，硼磷硅玻璃BPSG

    ◆TEOS，LTO，HTO，SIPOS...

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