光觸媒分散機納米級的*在研磨細化的狀態(tài)下本身具有團聚的現(xiàn)象這樣的話就不能夠很好的發(fā)揮*的特性。我司研發(fā)的高剪切研磨分散機不僅可以將*進行更細的研磨還可以對*進行分散，高轉(zhuǎn)速的研磨均質(zhì)分散配合分散劑這樣能夠更好地發(fā)揮*的特性。

光觸媒分散機 光觸媒高剪切分散機 光觸媒高速均質(zhì)機 光觸媒納米級分散機 光觸媒在線式研磨分散機 光觸媒研磨均質(zhì)機    光觸媒高剪切均質(zhì)機

（洽談：1-7-3-6-8-3-4-7-9-6-0）

光觸媒是一種以納米級*為代表的具有光催化功能的光半導體材料的總稱，它涂布于基材表面，在紫外光及可見光的作用下，產(chǎn)生強烈催化降解功能：能有效地降解空氣中有毒有害氣體；能有效殺滅多種細菌，并能將細菌或真菌釋放出的毒素分解及無害化處理；同時還具備除甲醛、除臭、抗污、凈化空氣等功能。

納米級的*在研磨細化的狀態(tài)下本身具有團聚的現(xiàn)象這樣的話就不能夠很好的發(fā)揮*的特性。我司研發(fā)的高剪切研磨分散機不僅可以將*進行更細的研磨還可以對*進行分散，高轉(zhuǎn)速的研磨均質(zhì)分散配合分散劑這樣能夠更好地發(fā)揮*的特性。

北京某公司在我公司用的研磨分散機做的光觸媒催化劑效果非常好，剛開始一些問題不能夠解決在我們的建議之下加入了膨脹石墨效果明顯加強。

影響納米材料分散要素：

1、分散介質(zhì)

（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

2、分散劑

（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關。

（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關。

（3）水性介質(zhì)中，*使用TNWDIS。強極性有機溶劑中，如醇、DMF、NMP， *使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠，*使用TNEDIS 

高剪切研磨分散機介紹

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

型號	標準流量L/H	輸出轉(zhuǎn)速Rpm	標準線速度m/s	馬達功率KW	進口尺寸	出口尺寸
KZSD2000/4	300-1，000	18，000	51	4	DN25	DN15
KZSD2000/5	1，000-1,500	13，500	51	11	DN40	DN32
KZSD2000/10	3，000	9，300	51	22	DN50	DN50
KZSD2000/20	8，000	3，600	51	37	DN80	DN65
KZSD2000/30	20，000	3，600	51	75	DN150	DN125
KZSD2000/50	40，000	2，500	51	160	DN200	DN150

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

 

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

 

3 參數(shù)內(nèi)的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。

 

4 本表的數(shù)據(jù)因技術改動,定制而不同,正確的參數(shù)以提供的實物為準。

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