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KRI聚焦型射頻離子源用于制備超薄 TEM 樣品

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更新時(shí)間:2023-08-17 10:18:25瀏覽次數(shù):77

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380用于制備超薄 TEM 樣品

詳細(xì)介紹

普通傳統(tǒng)的制樣減薄方法存在遠(yuǎn)端的薄區(qū)極易彎曲和薄區(qū)厚度不均勻的問(wèn)題, 因此某機(jī)構(gòu)采用伯東KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 通過(guò)交叉減薄的方法制備超薄 TEM 樣品.

 

交叉減薄

交叉減薄的過(guò)程利用 TEM 樣品臺(tái)的旋轉(zhuǎn)來(lái)完成, 如下圖.

TEM 樣品臺(tái)模型圖

 

 

伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):

射頻離子源型號(hào)

RFICP 380

Discharge 陽(yáng)極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長(zhǎng)度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推薦理由:

使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 可以準(zhǔn)確、靈活地對(duì)樣品選定的區(qū)域進(jìn)行刻蝕、沉積和減薄.

 

運(yùn)行結(jié)果:

1. 通過(guò)利用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 和樣品臺(tái)交叉減薄得到的薄區(qū)非常均勻, 邊緣整齊. 相比較傳統(tǒng)減薄方法, 交叉減薄避免了樣品在傾斜52°和56°減薄時(shí)出現(xiàn)的邊緣收縮問(wèn)題和遠(yuǎn)端薄區(qū)彎曲問(wèn)題.

2. 對(duì)于復(fù)合材料大大降低了位于兩相界面處薄區(qū)的厚度, 提高了樣品質(zhì)量, 提高了制樣的成功率和效率.

 

 

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口品牌代理商.

 

 

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅小姐

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