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考夫曼射頻離子源輔助 DC/DC 混合電路生產

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  • 所在地

    上海市

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更新時間:2023-08-08 10:55:45瀏覽次數:84

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產品簡介

考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產

詳細介紹

在 DC/DC 混合電路生產各工藝環節中會有不希望出現的物理接觸面狀態變化、相變等, 對質量帶來不利影響, 對其生產中表面狀態的控制已成為關鍵控制環節.

 

某大型工廠在生產過程中采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產, 其主要目的是:

1. 去除處理物體表面的外來物層, 如沾污層、氧化層等

2. 改善物體表面狀態, 提高物體表面活性, 提高物體表面能等

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:

離子源型號

RFICP220

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>800 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000

 

客戶存在的問題:

客戶的背銀芯片很容易發生銀的硫化及氧化,將直接影響芯片的貼裝質量.被硫化或氧化背銀的芯片采用導電膠粘接、氫氣燒結、再流焊貼裝均將有空洞率增大導致接觸電阻、熱阻增大和粘接強度下降等問題.

 

解決方案:

客戶采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 , 氬氣作為清洗氣體, 清洗時間200~300 s, 氣體流量40 sccm, 經過 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 產生的離子束清洗芯片背面

 

運行結果:

1. KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 有效去除背銀芯片硫化銀及氧化銀, 保證了芯片貼裝質量

2. 可有效提高 DC/DC 混合電路組裝質量及可靠性

 

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口品牌的代理商.

 

 

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生 


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