詳細介紹
在 DC/DC 混合電路生產各工藝環節中會有不希望出現的物理接觸面狀態變化、相變等, 對質量帶來不利影響, 對其生產中表面狀態的控制已成為關鍵控制環節.
某大型工廠在生產過程中采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產, 其主要目的是:
1. 去除處理物體表面的外來物層, 如沾污層、氧化層等
2. 改善物體表面狀態, 提高物體表面活性, 提高物體表面能等
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:
離子源型號 | RFICP220 |
Discharge | RFICP 射頻 |
離子束流 | >800 mA |
離子動能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 20 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 10-40 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長度 | 30 cm |
直徑 | 41 cm |
中和器 | LFN 2000 |
客戶存在的問題:
客戶的背銀芯片很容易發生銀的硫化及氧化,將直接影響芯片的貼裝質量.被硫化或氧化背銀的芯片采用導電膠粘接、氫氣燒結、再流焊貼裝均將有空洞率增大導致接觸電阻、熱阻增大和粘接強度下降等問題.
解決方案:
客戶采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 , 氬氣作為清洗氣體, 清洗時間200~300 s, 氣體流量40 sccm, 經過 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 產生的離子束清洗芯片背面
運行結果:
1. KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 有效去除背銀芯片硫化銀及氧化銀, 保證了芯片貼裝質量
2. 可有效提高 DC/DC 混合電路組裝質量及可靠性
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口品牌的代理商.
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上海伯東: 羅先生