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考夫曼射頻離子源用于復合磁控濺射沉積裝置 詳細摘要： KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 成功用于復合磁控濺射沉積裝置
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-10 參考價：¥ 300000 在線留言 -
考夫曼射頻離子源濺射沉積紅外器件介質膜 詳細摘要： KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射沉積紅外器件介質膜
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-10 參考價：¥ 300000 在線留言 -
考夫曼射頻離子源濺射沉積 NSN70 隔熱膜 詳細摘要： KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積 NSN70 隔熱膜
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-10 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積制備碳薄膜 詳細摘要： KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積制備碳薄膜
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-10 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRI考夫曼離子源離子束里的電荷與動能交換 詳細摘要： KRI 美國考夫曼離子源離子束里的電荷與動能交換
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-10 參考價：¥ 300000 在線留言 -
上海伯東真空設備在真空鍍膜行業應用 詳細摘要： 上海伯東 Hakuto 真空設備在真空鍍膜行業應用
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-10 參考價：¥ 300000 在線留言 -
美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD應用 詳細摘要： 美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應用
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-10 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRi考夫曼離子源表面預清潔應用 詳細摘要： KRi 考夫曼離子源表面預清潔 Pre-clean 應用
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-10 參考價：¥ 300000 在線留言 -
射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應用 詳細摘要： KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應用
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-10 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRi 離子源電子束蒸發系統輔助鍍膜應用 詳細摘要： KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發系統輔助鍍膜應用
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-10 參考價：¥ 300000 在線留言 -
美國 KRi 離子源常見工藝應用 詳細摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-03 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRi 射頻離子源應用于國產離子束濺射鍍膜機 詳細摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-03 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRI 離子源應用于有機材料熱蒸鍍設備 OLED 詳細摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-03 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRI 離子源應用于超高真空電子束蒸鍍設備 詳細摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-03 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRI 離子源應用于超高真空磁控濺鍍設備 詳細摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-03 參考價：¥ 300000 在線留言 -
上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源簡介 詳細摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-03 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRI 離子源應用于磁控共濺鍍設備 詳細摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-03 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRI 離子源應用于電子束蒸鍍設備 詳細摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-03 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRI 射頻離子源應用于多層膜磁控濺鍍設備 詳細摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-03 參考價：¥ 300000 在線留言 -
KRI 離子源應用于金屬熱蒸鍍設備 詳細摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...
產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2023-07-03 參考價：¥ 300000 在線留言