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    CIK藥乳膏納米三級乳化機，醫藥乳化機，醫藥高剪切乳化機，隨著時代的不斷發展，高剪切乳化機在醫藥行業應用被不斷的豐富和發展。高剪切乳化機是一款對于醫藥乳液、醫藥混懸液進行均質乳化的設備，如：生物農藥、醫藥混懸液、*混懸液、*混懸液等。 

                
以阿苯達挫醫藥混懸液為例，來闡述一下高剪切乳化機在醫藥行業的應用

阿苯達挫醫藥混懸液的國家標準為粒徑小于15μm，采用傳統的均質乳化設備，一般只能達到20μm作用，難以滿足國家標準。因為傳統的乳化機的轉速只能達到3000rpm，剪切力較弱，而上海切可分體式高剪切乳化機，解決乳化機提速的問題，將轉速提高到14000rpm，線速度可達44m/s，剪切力強。CIK高剪切乳化機，有三層分散盤，有五種不同規格的乳化盤可供選擇，五種規格從粗到細。結合江蘇龍燈化學*混懸液處理結果來說，經過CIK高剪切乳化機進行均質乳化機，zui終混懸液的粒徑D90小于10μm。
                          

                         
    CIK藥乳膏納米三級乳化機CRS2000采取直立式設計，使物料可以全部進入分散腔，符合工藝要求和流體力學要求，增加其工作效率，zui低處出口的出料設計符合生產要求，垂直的壓力使得該機器工作更加穩定，同時便于清潔。充分考慮FDA和CHCDG的標準，CRS2000與物料接觸的材料根據生產要求使用SS316鋼或更加耐酸堿的哈氏合金，*增強其耐磨損和耐腐蝕的特性，杜絕設備與物料產生物理和化學變化而形成污染。采用了三層結構卡匣式的機械密封設計，可以快速安裝，可靠性能高，適合制藥工業。根據制藥規范要求，對分散腔和出料口進行表面處理，*的表面處理質量和*設計便于清洗，符合CIP及SIP的清潔標準。

污染是制藥過程很大的風險因素，對于設備良好的清潔可以有效的防止污染的發生。CRS2000從設計上注重衛生要求，采用*設計，便于清洗，對表面進行高質量處理，防止其對制藥產生不利影響，該設備還符合CIP和SIP的清潔標準，能更好的實現在線清洗，提高工作效率，確保產品安全。

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