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上海依肯機械設備有限公司

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CMSD2000/5羥基化雙口多壁碳納米管研磨分散機

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  • 上海依肯機械設備有限公司
  • 2018-11-09 15:01:27
  • 上海市
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【簡單介紹】

羥基化雙口多壁碳納米管研磨分散機能夠實現自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

【詳細說明】

羥基化雙口多壁碳納米管研磨分散機,羥基化雙口多壁碳納米管高速均質分散機,管線式羥基化雙口多壁碳納米管研磨分散機,德國超高速,新型

 

IKN研磨分散機能夠實現自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

 

碳納米管被認為是一種典型的一維納米材料。碳納米管自從被人類發現以來,就一直被譽為未來的材料,是近年來國x科學的前沿領域之一。碳納米管的*結構決定了它具有許多特殊的物理和化學性質,人們預言碳納米管可能成為一種新型的高強度碳纖維材料,既具有碳素材料的固有本性,又具有金屬材料的導電和導熱性,陶瓷材料的耐熱和耐腐蝕性,紡織纖維的可編織性,以及高分子材料的輕質、易加工性。將碳納米管作為復合材料增強體,預計可表現出良好的強度、彈性、抗疲勞性及各向同性,可以預期碳納米管增強復合材料可能帶來復合材料性能的一次飛躍。

依肯機械  賈清清 歡飲您致電

碳納米管分散難點

 

碳納米管分散,其實也就是所謂的納米級物料的分散,在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。

 

 

CMD2000模塊主要由兩層分散頭構成,工作時,物料通過投料口進入分散腔,首先到達層分散頭進行處理,由于馬達帶動轉子齒列高速運轉,產生渦流和離心力效應使得物料軸向吸入分散頭,然后沿著定-轉子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用,之后在轉子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切,接著流出的物料進入第二層分散頭腔體,對處理過的物料再次進行剪切(原理同上),從而確保混合分散獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,生成的混合液穩定性更好,滿足疫苗生產對于粒徑的要求。

 

碳納米管分散技術三要素:分散介質、分散劑和分散設備

1、分散介質

(1)根據粘度不同,分散介質分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質中,如水和有機溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質如液態環氧樹脂、液態硅橡膠等,高粘度介質如熔融態的塑料。

(2)碳納米管分散技術,針對中、低粘度分散介質。

2、分散劑

(1)分散劑的選擇,與分散介質的結構、極性、溶度參數等密切相關。

(2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關。

(3)水性介質中,*使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP, *使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態環氧樹脂、液態硅橡膠,*使用TNEDIS 。

 

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3、分散設備

(1)超聲波分散設備:非常適合實驗室規模、低粘度介質分散碳納米管,用于中、高粘度介質時會受到限制。

(2)研磨分散設備:適合大規模地分散碳納米管、中粘度介質分散碳納米管。

(3)采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法,可以高效、穩定地分散碳納米管分散劑用量*。

從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

IKN研磨分散機的應用領域:

  1. 精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散
  2. 石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化
  3. 農藥化肥 、化肥、農藥乳化、農藥助劑、農藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復合肥、乳油濕性粉劑
  4. 生物醫藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣
  5. 日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發用品、牙膏、日用香精
  6. 食品工業、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
  7. 涂料油墨、內外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土

 

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%

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