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上海翰軍實驗設備有限公司
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一、概述：這款配置的高真空CVD系統集快速紅外加熱爐，2通道氣路系統和低真空系統組成
一、概述：
這款配置的高真空CVD系統集快速紅外加熱爐，2通道氣路系統和低真空系統組成。控制電路選用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。本套系統用于CVD退火，也可以應用于于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。
二、主要技術參數
1200加熱爐 | 電壓 | AC380V 50/60Hz |
功率 | 24KW | |
加熱區長 | 400mm | |
使用溫度 | 1100℃ | |
工作溫度 | ≤1000℃ | |
升溫速率： | ≤600℃/min | |
溫控系統 | PID自動控制晶閘管（可控硅）輸出功率， 30段可編程控制器， | |
恒溫精度 | ±5 | |
石英管 | Φ50/60/80/100*1400mm | |
兩路質量流量控制系統 | 電壓 | 185~24V/50Hz |
輸出功率： | 18W | |
流量計標準量程 | 300SCCM | |
工作溫度： | 5~45 oC | |
工作壓差： | 0.1～0.5 MPa | |
壓力： | 3Mpa | |
準確度： | ±1.5% FS | |
真空系統 | 1.采用雙極旋片真空泵，真空度可達5×10-1 Torr不銹鋼充油真空壓力表，良好的抗震性 2.安裝過濾器 | |
法蘭及支撐 | 304不銹鋼快速水冷法蘭，長期水冷無腐蝕一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷可調節的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐 包含進氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合，4個密封硅膠圈等 | |
可選配件 | 混氣系統,中、高真空系統，各種剛玉坩堝，石英管，計算機控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀，冷卻水循環機等。 | |
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