概述：這款配置的低真空CVD系統(tǒng)集1200℃真空管式爐，3通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預(yù)抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量控制器和浮子流量控制器）

詳細(xì)介紹

概述：

這款配置的低真空CVD系統(tǒng)集1200℃真空管式爐，3通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)

（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預(yù)抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量控制

器和浮子流量控制器）。真空泵、閥均采用進(jìn)口設(shè)備，性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，具有控溫

精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡(jiǎn)單易操作等特點(diǎn)。CVD生長(zhǎng)系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷

基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。

主要技術(shù)參數(shù)：

1200雙溫區(qū)加熱爐	電壓	AC220V 50/60Hz
	功率	4.5KW雙溫控
	加熱區(qū)長(zhǎng)	220mm，恒溫區(qū)長(zhǎng)度：100mm
	溫度	1150℃
	工作溫度	≤1100℃
	升溫速率：	≤15℃/min
	溫控系統(tǒng)	PID自動(dòng)控制晶閘管（可控硅）輸出功率， 30段可編程控制器
	恒溫精度	±1℃
	石英管	φ 25/50/60/80*1400mm
三路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)	電壓	185~245V/50Hz
	輸出功率：	18W
	流量計(jì)標(biāo)準(zhǔn)量程：	50，100 ，200，500SCCM；（非特殊以氮?dú)鈽?biāo)定，量程可選定）
	工作溫度：	5~45 oC
	工作壓差：	0.1～0.5 MPa
	壓力：	3Mpa
	準(zhǔn)確度：	±1.5% FS
低真空系統(tǒng)	1.采用雙極旋片真空泵，真空度可達(dá)5×10-¹Torr不銹鋼充油真空壓力表，良好的抗震性 2.安裝過(guò)濾器
內(nèi)置測(cè)溫系統(tǒng)	測(cè)溫元件可從加熱區(qū)邊緣延伸至溫區(qū)中心法蘭密封，保證爐管的密封性測(cè)溫元件： N型熱電偶
法蘭及支撐	304不銹鋼快速水冷法蘭，長(zhǎng)期水冷無(wú)腐蝕一個(gè)卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷可調(diào)節(jié)的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐包含進(jìn)氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合，4個(gè)密封硅膠圈等
可選配件	混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng)，各種剛玉坩堝，石英管，計(jì)算機(jī)控制軟件，無(wú)紙記錄儀，氧含量分析儀，冷卻水循環(huán)機(jī)等。

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