我國(guó)雖然半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)起步較晚，但是發(fā)展比較迅猛。那么熟悉半導(dǎo)體領(lǐng)域的人都知道硅晶圓，硅晶圓是半導(dǎo)體的核心，也是成本占比最高的材料，純度也超高，是一種為了制成半導(dǎo)體基體電路的原材料。

這是半導(dǎo)體電路的重要組成，硅晶圓高質(zhì)量地產(chǎn)出對(duì)于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)來(lái)說(shuō)至關(guān)重要。因?yàn)槠湟蟾撸溆鄬?duì)生產(chǎn)中的清洗用水要求也較高，需要使用達(dá)到一定標(biāo)準(zhǔn)的超純水，這樣才能不影響硅晶圓產(chǎn)出質(zhì)量，那么什么樣的超純水設(shè)備才能產(chǎn)出高質(zhì)量的超純水?

目前常見的超純水設(shè)備核心工藝為“預(yù)處理+反滲透+EDI+拋光混床”的組合形式。這樣的超純水設(shè)備具有高效低能、運(yùn)行成本低，水資源利用率高、體積較小、維修量小，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)。其中，應(yīng)用的EDI模塊，在運(yùn)行時(shí)是不需要添加任何化學(xué)品的，不僅減少了化學(xué)品運(yùn)輸問(wèn)題，同時(shí)降低了系統(tǒng)運(yùn)行費(fèi)用。本模塊不會(huì)有酸堿廢液產(chǎn)生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下，EDI水處理系統(tǒng)產(chǎn)出的濃水可以回收再利用。

我司的超純水設(shè)備設(shè)置不合格產(chǎn)水自動(dòng)回流系統(tǒng)，EDI系統(tǒng)出水電阻率低于15兆歐時(shí)，產(chǎn)水自動(dòng)回流至EDI進(jìn)水箱，使其再一次被EDI系統(tǒng)處理，保證EDI產(chǎn)水水質(zhì)的穩(wěn)定，同時(shí)也保證了后端拋光樹脂的使用壽命。

這類的超純水設(shè)備可以更好的，連續(xù)的，穩(wěn)定的制備高品質(zhì)的超純水，采用的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)相對(duì)靠近，所以其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，在符合硅晶圓生產(chǎn)用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的同時(shí)可以使水資源的利用率達(dá)到95%~99%，有效提升了水資源利用率。

隨著我國(guó)科技半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展與壯大，未來(lái)將帶動(dòng)產(chǎn)業(yè)上下游共同發(fā)展，并且硅晶圓的產(chǎn)出質(zhì)量也將越來(lái)越高。