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上海雋思實驗儀器有限公司
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更新時間：2025-02-25 12:00:48瀏覽次數(shù)：9次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工機械設備網(wǎng)一．智能型HMDS預處理系統(tǒng)，HMDS蒸鍍機概述HMDS預處理系統(tǒng)通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，改變了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性
一．智能型HMDS預處理系統(tǒng)，HMDS蒸鍍機概述
HMDS預處理系統(tǒng)通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，改變了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業(yè)。
二．智能型HMDS預處理系統(tǒng)，HMDS蒸鍍機特點
? 預處理性能更好：
? 處理更加均勻：
? 效率高：
? 更加節(jié)省藥液：
? 更加環(huán)保和安全：
? HMDS藥液低液位報警：
? 自動吸取HMDS：
? 可自動添加HMDS：
? HMDS藥液泄漏報警：
? HMDS氣體管路加熱系統(tǒng)：
? 參數(shù)記錄功能：
? 溫度與程序互鎖功能：
三．智能型HMDS預處理系統(tǒng)，HMDS蒸鍍機的必要性
HMDS蒸鍍就是利用惰性氣體（例如氮氣）帶著HMDS的蒸汽通過芯片表面，而在芯片表面形成一層薄膜。其目的在于：A.消除芯片表面的微量水分。B.防止空氣中的水汽再次吸附于晶面C.增加光阻劑（尤其是正光阻）對于晶面的附著能力，進而減少在此后之顯影過程中產(chǎn)生掀起，或是在蝕刻時產(chǎn)生了“Undercutting"的現(xiàn)象。目前在規(guī)范中規(guī)定于HMDS蒸鍍完4小時內(nèi)需上光阻以確保其功能。
將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。
四.智能型HMDS預處理系統(tǒng)，HMDS蒸鍍機技術參數(shù)
? 材質：外箱采用不銹鋼或優(yōu)質冷軋板噴塑，內(nèi)箱采用316L級不銹鋼
? 溫度范圍：RT+10-250℃
? 溫度分辨率：0.1℃
? 溫度波動度：≤±0.5
? 真空度：≤133pa（1torr）
? 潔凈度：class 100，設備采用無塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境
? 電源及總功率：AC 220V/380V±10% / 50HZ
? 控制儀表;人機界面
? 擱板層數(shù):2層
? HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
? 真空泵: 旋片式油泵或進口無油泵
? 保護裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報警裝置，HMDS低液位報警，HMDS自動添加，超溫保護，漏電保護，過熱保護等
五．智能型HMDS預處理系統(tǒng)，HMDS蒸鍍機常用規(guī)格
容積 | 型號 | 控溫范圍 | 電源電壓 | 內(nèi)膽尺寸（mm） |
40L | JS-HMDS40-AI | RT-250℃ | 220V/50Hz | W350*D350*H350 |
90L | JS-HMDS90-AI | RT-250℃ | 220V/50Hz | W450*D450*H450 |
210L | JS-HMDS210-AI | RT-250℃ | 220V/50Hz | W550*D550*H650 |
730L | JS-HMDS730-AI | RT-250℃ | 380V/50Hz | W800*D800*H800 |
注：若無符合要求的規(guī)格，可提供訂制。
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