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FEI SEM Apreo 掃描電子顯微鏡

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產(chǎn)品簡介

FEI SEM Apreo 掃描電子顯微鏡革命性的復合透鏡設計結合了靜電和磁浸沒技術，可產(chǎn)生*的高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺，并且不會降低磁性樣品性能。

詳細介紹

FEI SEM Apreo 掃描電子顯微鏡革命性的復合透鏡設計結合了靜電和磁浸沒技術，可產(chǎn)生*的高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺，并且不會降低磁性樣品性能。
FEI SEM Apreo 掃描電子顯微鏡受益于的透鏡內(nèi)背散射探測，這種探測提供的材料對比度，即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時也不例外。新型復合透鏡通過能量過濾進一步提高了對比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾。可選低真空模式，現(xiàn)在的zui大樣品倉壓力為 500 Pa，可以對要求zui嚴苛的絕緣體進行成像。
通過這些優(yōu)勢（包括復合末級透鏡、高級探測和靈活樣品處理），Apreo 可提供出色的性能和多功能性，幫助您應對未來的研究難題。
*的復合末級透鏡可在任何樣品（甚至在傾斜時貌起伏大）上提供優(yōu)異的分辨率（1 kV 電壓下為 1.0 nm），而無需進行電子束減速。
作用極大的背散射探測始終可保證良好的材料對比度，即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進行 TV 速率成像時也不例外。
無比靈活的探測器可將各個探測器分割提供的信息相結合，讓用戶能夠獲得至關重要的對比或信號強度。
各種各樣的電荷緩解策略，包括倉室壓力zui高為 500 Pa 的低真空模式，可實現(xiàn)任何樣品的成像。
的分析平臺提供高電子束電流，而且束斑很小。倉室支持三個 EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對分析而優(yōu)化的低真空系統(tǒng)。
樣品處理和導航極容易，具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。