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鋼研納克檢測技術股份有限公司

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Plasma 3000 ICP光譜儀

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產品型號Plasma 3000

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產品簡介

詳細介紹

分光系統

徑向觀測與軸向觀測設計，適應亞 ppm 到高含量的元素測量。中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用 CaF2 棱鏡，提高光路傳輸效率。優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。光室氣體氛圍保持技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。

光源

固態射頻發生器，高效穩定，體積小巧，效率高，匹配速度快，能適應各種復雜基體樣品及揮發性有機溶劑的測試，均能獲得優異的長期穩定性。垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。冷錐消除尾焰技術，地降低自吸效應和電離干擾，從而獲得更寬的動態線性范圍和更低的背景，保證準確的測量結果。具有綠色節能待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使用成本。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，精確的位置重現。實時監控儀器運行參數，高性能 CAN 工業現場總線，保障通訊高效可靠。

進樣系統

簡潔的炬管安裝設計，自動定位炬管位置，精確的位置重現。儀器配備系列經過優化的進樣系統，可用于有機溶劑、高鹽 / 復雜基體樣品、含氫氟酸（HF）等樣品的測試。

使用可拆卸式或一體式炬管，易于維護，轉換快速，使用成本低。使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩定。多通道 12 滾輪蠕動泵，提升樣品導入穩定性。

檢測器

大面積背照式 CCD 檢測器 , 全譜段響應，高紫外量子化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態范圍和極快的信號處理速度。一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準確的分析結果。同類產品中靶面尺寸，百萬級像素，單像素面積 24μm X 24μm，三級半導體制冷 , 制冷溫度低，具有更低的噪聲和更好的穩定性。

軟件系統

人性化的界面設計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應用優化的軟件系統，無須復雜的方法開發，即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。輕松的觀測方式設置，直觀的測試結果顯示。

安全防護

電磁屏蔽，減少電磁輻射連鎖門保護，避免用戶誤操作可能帶來的風險防紫外觀測窗