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31W一米平面光柵攝譜儀

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上海光學儀器五廠有限公司

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產品簡介

詳細介紹

一．用途：
本儀器利用平面反射式光柵分光研究物質的成份和含量，主要用于金屬合金（包括礦物礦井石）的日常定性量分析，純金屬和材料的雜質鑒定，與各種附件配合，用作激光微區分析、記錄閃光和弱光現象。
二.儀器特點：
1．光學系統采用艾伯特垂直對稱形式裝置，彗差及象散可矯正到理想程度，在較長譜面范圍內譜線清晰，結構均勻，靈敏度高。
2．儀器采用三透鏡消色差照明方法，狹縫得到均勻照明，使同一條譜線黑度均勻。
3．儀器縫前的哈特曼光欄及三階，九價減光板。
4．適用控制箱控制譜過程。
5．儀器配備直流電弧，交流電弧光源，以適應不同分析任務的需要。
6．儀器配置工作臺，安裝和操作方便。
7．在預處理階段的鐵樣品的標準波長處譜線清新。
8．中心波長顯示實現UI界面與人機互動。
9．采用高精密度的絲桿和光柵調節中心波長。
10．儀器采用全數字控制，可以實現相板移動自動化。
11．儀器實現全數顯化，可直接顯示預燃、曝光、板移的時間和中心波長。
三．規格：
工作波段：                          200nm～850nm
攝譜儀焦距：                      F=1050㎜
相對孔徑： A=1：22
狹縫主要技術指標：寬度范圍0.002～0.3㎜          寬度分度值0.001㎜
有效高度10㎜                 寬度再現性0.001㎜
波長顯示：計數器(nm)
光柵： 200條/㎜光柵2塊
外形尺寸：長×寬×高   1300×1500（包括導軌在內）×600㎜
重量： 100㎏
工作電源： 380V  50Hz  20A
220V  50Hz  20A

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