電子級超純水設備采用全新制取工藝,從而加強鍍件光澤度、附著力,配置必需運用純水,提升產品質量。純水制取技術的不斷提升,為電子行業的發展提供了技術支持。下面介紹一下電子級超純水設備的流程和清洗方法。
一、電子級超純水設備的清洗方法
一槽和二槽藥水槽溫度:40-65度,漂洗槽和慢拉也一樣,烤箱溫度100-120度左右,每槽清洗時間3-5分鐘,振動大小每槽滿頻率或80%頻率。純水的純度對清洗有很大影響,水質比較差會有很多水印和白點的,溢流水要中等大小。藥水是從后儲液槽加入,等溫度升上來后加入,并攪拌均勻溶解充分,藥水更換24小時為宜,漂洗槽純水更換1個班次為宜。
我司采用*的超純水設備工藝流程,采用預處理+雙級反滲透+EDI工藝,滿足超純水電阻率,保證產品質量。

二、電子級超純水設備的工藝流程
1、采用離子交換方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
2、采用兩級反滲透方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
3、采用EDI方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

三、電子級超純水設備的執行標準
● GB/T11446.1-1997《中國國家電子級水》
● JB/T7621-1994《電力半導體器件工藝用高純水》
● GB6682-2008《分析實驗室用水國家標準》
● ASTM-D5127-2007《美國電子學和半導體工業用超純水標準》
● GMP認證標準
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