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萊特萊德(上海)環境技術股份有限公司
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一、半導體加工用超純水設備概述
半導體是一種介于導體和絕緣體之間的材料，在半導體加工過程中需要使用水進行處理，該水質的要求比較高，不能含有任何離子雜質。半導體加工用超純水設備采用反滲透技術和EDI技術，有效去除原水中的各種雜質，保證設備的出水水質滿足半導體加工用水。
萊特萊德上海水處理設備公司致力于成為時代的水處理企業，形成了完整的產品體系與項目設計體系。專業提供純化水設備、超純水設備、反滲透設備、水處理設備等設備的工程、價格與行業解決方案。
二、半導體加工用超純水設備工藝流程
預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)
預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲透膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)
預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)
三、半導體加工用超純水設備優點
1、無需酸堿再生：在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生，而EDI則消除了這些有害物質的處理和繁重的工作。保護了環境。
2、連續、簡單的操作：在混床中由于每次再生和水質量的變化，使操作過程變得復雜，而EDI的產水過程是穩定的連續的，產水水質是恒定的，沒有復雜的操作程序，操作大大簡便化。
3、降低了安裝的要求：EDI系統與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，它采用積木式結構，可依據場地的高度和靈活地構造。模塊化的設計，使半導體加工用超純水設備在生產工作時能方便維護。
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