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Quantum Design China(Beijing)


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超高分辨散射式近場光學顯微鏡-neaSNOM

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產品簡介

neaSNOM是德國neaspec公司推出的第三代散射式近場光學顯微鏡(簡稱s-SNOM),其采用了化的散射式核心設計技術,極大的提高了光學分辨率,并且不依賴于入射激光的波長,能夠在可見、紅外和太赫茲光譜范圍內,提供優于10nm空間分辨率的光譜和近場光學圖像。由于其高度的可靠性和可重復性,neaSNOM業已成為納米光學領域熱點研究方向的科研設備,在等離基元、納米FTIR和太赫茲等眾多研究方向得到了許多重要科研成果。最近,neaspec公司成功開發了可見至太赫茲高分辨光譜和成像綜合系統,將上述s-SNOM功能與納米紅外(FTIR)、針尖增強拉曼(TERS)、超快光譜(ultrafast)和太赫茲光譜(THz)進行聯用,可以為廣大科學工作者在等離子激元、二維材料聲子極化、半導體載流子濃度分布、生物材料紅外表征、電子激發及衰減過程等的研究上提供相關支持。

詳細介紹

neaSNOM近場光學顯微鏡技術特點和優勢:


? neaSNOM是目前世界上成熟的s-SNOM產品

? 保護的散射式近場光學測量技術

—的10 nm空間分辨率

? 的高階解調背景壓縮技術

—在獲得10nm空間分辨率的同時保持的信噪比

? 保護的干涉式近場信號探測單元

? 的贗外差干涉式探測技術

—能夠獲得對近場信號強度和相位的同步成像

? 保護的反射式光學系統

—用于寬波長范圍的光源:可見、紅外以至太赫茲

? 高穩定性的AFM系統,

—同時優化了納米尺度下光學測量

? 雙光束設計

—的光學接入角:水平方向180°,垂直方向60°

? 操作和樣品準備簡單

—僅需要常規的AFM樣品準備過程




neaSNOM近場光學顯微鏡重要應用領域:


? 表面等離激元

? 聲子極化激元

? 石墨烯等離基元

? 化學過程

? 光電流/太赫茲

? 石墨烯

? 六方氮化硼

? 高分子/生物材料



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