CMS2 可以測量幾乎所有基材上金屬鍍層的厚度，包括多鍍層結(jié)構(gòu); COULOSCOPE CMS2工作原理是根據(jù)陽極溶解的庫侖法（DIN EN ISO 2177）。簡單的操作和菜單化的操作指導(dǎo)使 CMS2 成為電鍍行業(yè)生產(chǎn)監(jiān)控和質(zhì)量檢驗理想的解決方法。設(shè)備為不同的鍍層結(jié)構(gòu)配備了近 100 個預(yù)留的應(yīng)用程式（例如，鐵上鍍鋅，黃銅上鍍鎳） , 以及各種電解速度（例如 1, 2, 5, and 10 μm/min）。

詳細介紹

產(chǎn)品描述

德國FISCHER菲希爾COULOSCOPE CMS2庫倫法測厚儀-----根據(jù)庫侖法測量鍍層厚度和多層鎳電位差。庫侖法是一種簡單易用能夠確定金屬鍍層厚度的電化學(xué)分析方法。這個方法主要應(yīng)用于檢查電鍍層的質(zhì)量，現(xiàn)在也適用于監(jiān)控印刷線路板剩余純錫的厚度。CMS2 可以測量幾乎所有基材上金屬鍍層的厚度，包括多鍍層結(jié)構(gòu); 它的工作原理是根據(jù)陽極溶解的庫侖法（DIN EN ISO 2177）。簡單的操作和菜單化的操作指導(dǎo)使 CMS2 成為電鍍行業(yè)生產(chǎn)監(jiān)控和質(zhì)量檢驗理想的解決方法。設(shè)備為不同的鍍層結(jié)構(gòu)配備了近 100 個預(yù)留的應(yīng)用程式（例如，鐵上鍍鋅，黃銅上鍍鎳） , 以及各種電解速度（例如 1, 2, 5, and 10 μm/min）。這些應(yīng)用程式適用于多鍍層系統(tǒng)。COULOSCOPE CMS2 系列儀器通過電解退鍍方式測量鍍層厚度。還可使用庫侖法精確測定任何類型底材上的多鍍層厚度。CSM2 STEP 版本可對單種鍍層進行標(biāo)準的STEP測試，以檢測電位差（如多層鎳涂層的質(zhì)量控制）。

主要特點：

大尺寸高分辨率的彩色顯示器
簡單的操作和圖示的用戶指導(dǎo)
使用 V18 支架實現(xiàn)半自動化測量

電解速度和測量面積的簡單選擇

（0.1 ----50 μm/min）和（0.6 ----3.2 mm ?）

電壓曲線圖形顯示、圖形和統(tǒng)計分析

多語言和計量單位可供選擇

COULOSCOPE CMS2 應(yīng)用：

強大并且用戶友好的 COULOSCOPE CMS2 適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品的質(zhì)量檢驗。很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用 CMS2 簡單快速地測量。這個方法為任何金屬鍍層提供了精確的測量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內(nèi)，很多材料不需要預(yù)設(shè)定；基材組成和幾何形狀對于測量都是無關(guān)緊要的。常見的應(yīng)用之一就是測量線路板上剩余的純錫，以確保可焊性。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu 在鐵或者塑料（ABS）基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個方法進行測量。常見應(yīng)用有金屬和非金屬底材上任何類型的金屬鍍層、單層或多層的鍍層厚度測量、特別適用于通過 STEP 測試進行多層鎳測量、適用于 0.05 µm 至 40 µm 的鍍層厚度測量。

◇一個測量系統(tǒng)包括 COULOSCOPE® CMS2 或 CMS2STEP 和一個有測量槽的支架

◇各種測量臺設(shè)計適合不同的應(yīng)用。

◇大量的可選配件使測量工作更便利，確保了安全的儲存并為固定工件提供輔助。

◇廣泛適用的測量支架 V18 和專用的測量支架 V27 測量線材上的鍍層厚度。

◇固定工件的臺虎鉗，也同樣可以安裝在 V18 和 V24 的支撐板上。

◇作為測量鍍層厚度簡單的方法之一，庫侖法可以用于各種鍍層組合。

◇對于多鍍層結(jié)構(gòu)，當(dāng)允許破壞性測量時，提供了一個比 X 射線更經(jīng)濟的替代方法。

◇電鍍緊固件，測量PCB 板上的剩余純錫厚度，鍍鉻件以及浴室用品。

測量原理：

這個系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準的庫侖法。金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過在控制電流條件下電解腐蝕--------實際上就是電鍍的反過程。所載入的電流與要剝離的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面積保持不變，鍍層厚度與電解時間就是成正比的關(guān)系。

測量槽------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。測量面積由裝在測量槽上的墊圈尺寸來決定。對不同的金屬采用不同配方的電解液。通過載入電流開始電解過程。電解過程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制，用一個泵攪拌電解液來使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電解液利用。根據(jù)測量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈可供選擇。

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