超聲波振動應(yīng)用于石英頭，清洗半導(dǎo)體晶片。實現(xiàn)了高純度的清潔度，因為清洗劑除了石英玻璃外不接觸（不接觸橡膠或其他包裝物）。與批處理系統(tǒng)或沖洗型清潔器相比，它還可以節(jié)省清潔化學(xué)液體。石英頭（振動單元）可以根據(jù)不同的應(yīng)用進(jìn)行選擇性修改，以適應(yīng)不同的形狀，例如低損傷清潔、大面積清潔、斜面或凹口等特殊物體。

詳細(xì)介紹

兆聲清洗系統(tǒng)
貼合式清洗
Unit type

YMMS

   波振動應(yīng)用于石英頭，清洗半導(dǎo)體晶片。
實現(xiàn)了高純度的清潔度，因為清洗劑除了石英玻璃外不接觸（不接觸橡膠或其他包裝物）。與批處理系統(tǒng)或沖洗型清潔器相比，它還可以節(jié)省清潔化學(xué)液體。
石英頭（振動單元）可以根據(jù)不同的應(yīng)用進(jìn)行選擇性修改，以適應(yīng)不同的形狀，例如低損傷清潔、大面積清潔、斜面或凹口等特殊物體。

兆聲清洗特點
  兆聲波清洗不會產(chǎn)生強(qiáng)烈的空化效應(yīng)，可以避免在清洗過程中造成對清洗對象表面的損傷與污染物殘留。兆聲波清洗效率高、時間短，使用清洗劑濃度低，化學(xué)試劑的消耗量少，因此對環(huán)境的危害水平較低。

設(shè)備特性
● 適合晶圓尺寸：4寸、8寸、12寸；
● 直接貼附與被清洗物體表面，能量轉(zhuǎn)化效率更高；
● 極大地減少清洗液使用量；
● 極低的超聲空化效應(yīng)，不會對器件表面造成損傷；
● 無清洗液二次污染問題；
● 超高清洗精度，可去除物體表面0.2微米的污漬顆粒；
● 全面非金屬高防腐材質(zhì)，適應(yīng)各種酸堿及有機(jī)溶劑；
● 石英或藍(lán)寶石匹配層技術(shù)，無雜質(zhì)脫落到器件上的風(fēng)險；
● 的換能器貼合技術(shù)，更高的穩(wěn)定性和耐久性；
● 創(chuàng)新型半導(dǎo)體技術(shù)的兆聲發(fā)生器，全面實現(xiàn)數(shù)字化高頻大功率驅(qū)動；

應(yīng)用領(lǐng)域
● CMP化學(xué)機(jī)械拋光 ● 鍵合前清洗 ● 掩膜清洗
● 顯影 ● 去膠 ● Lift-off金屬剝離
● 濕法刻蝕 ● 鏡頭清洗 ● 顯示屏等微電子行業(yè)精密清洗

兆聲清洗系統(tǒng)
貼合式清洗
Unit type

YMMS

   波振動應(yīng)用于石英頭，清洗半導(dǎo)體晶片。
實現(xiàn)了高純度的清潔度，因為清洗劑除了石英玻璃外不接觸（不接觸橡膠或其他包裝物）。與批處理系統(tǒng)或沖洗型清潔器相比，它還可以節(jié)省清潔化學(xué)液體。
石英頭（振動單元）可以根據(jù)不同的應(yīng)用進(jìn)行選擇性修改，以適應(yīng)不同的形狀，例如低損傷清潔、大面積清潔、斜面或凹口等特殊物體。

兆聲清洗特點
  兆聲波清洗不會產(chǎn)生強(qiáng)烈的空化效應(yīng)，可以避免在清洗過程中造成對清洗對象表面的損傷與污染物殘留。兆聲波清洗效率高、時間短，使用清洗劑濃度低，化學(xué)試劑的消耗量少，因此對環(huán)境的危害水平較低。

設(shè)備特性
● 適合晶圓尺寸：4寸、8寸、12寸；
● 直接貼附與被清洗物體表面，能量轉(zhuǎn)化效率更高；
● 極大地減少清洗液使用量；
● 極低的超聲空化效應(yīng)，不會對器件表面造成損傷；
● 無清洗液二次污染問題；
● 超高清洗精度，可去除物體表面0.2微米的污漬顆粒；
● 全面非金屬高防腐材質(zhì)，適應(yīng)各種酸堿及有機(jī)溶劑；
● 石英或藍(lán)寶石匹配層技術(shù)，無雜質(zhì)脫落到器件上的風(fēng)險；
● 的換能器貼合技術(shù)，更高的穩(wěn)定性和耐久性；
● 創(chuàng)新型半導(dǎo)體技術(shù)的兆聲發(fā)生器，全面實現(xiàn)數(shù)字化高頻大功率驅(qū)動；

應(yīng)用領(lǐng)域
● CMP化學(xué)機(jī)械拋光 ● 鍵合前清洗 ● 掩膜清洗
● 顯影 ● 去膠 ● Lift-off金屬剝離
● 濕法刻蝕 ● 鏡頭清洗 ● 顯示屏等微電子行業(yè)精密清洗
暫無相關(guān)參數(shù)
暫無相關(guān)資料

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