一、LTLD-DC電子工業用超純水設備概述
在電子工業當中,對于用水水質要求非常嚴格,需要采用*的EDI技術。電子行業用水標準主要分為18兆歐、15兆歐、10兆歐、2兆歐和0.5兆歐集中,分別用于電子半導體、集成電路芯片清洗、液晶顯示、光電器件等領域。而LTLD-DC電子工業用超純水設備采用*反滲透技術和EDI技術相結合,出水水質符合電子工業用水要求。

二、LTLD-DC電子工業用超純水設備構成及性能
混床外殼制作材質有玻璃鋼、有機玻璃、不銹鋼、碳鋼、防腐等,外型為圓柱型,直徑Φ200—2500mm,產水量從0.5t/h—98t/h。陽床裝載強酸陽離子交換樹脂,陰床裝載強堿陰離子交換樹脂,裝載高度一向在1000—2400 mm,小型濾帽式設備底部沒有承托層,中大型設備底部有粒度不同多級別石英砂承托層(現不建議這樣做,因為酸洗的時候石英砂和酸會產生化學反應,對水質造成影響),逆流再生固定床樹脂頂層有200 mm厚壓脂層樹脂(特殊的樹脂用來覆蓋下面的樹脂)。有機玻璃柱運行壓力≤0.15MPa,其他材質的設備運行壓力≤0.6MPa。陽床配備有酸箱、酸泵再生系統,陰床配備有堿箱、堿泵再生系統。

三、LTLD-DC電子工業用超純水設備工藝流程

四、LTLD-DC電子工業用超純水設備主要特點
(1)出水水質優質穩定,出水無細菌和固體懸浮物。
(2)污泥負荷(F/M)低,剩余污泥產量少。
(3)反應器高效集成,占地面積小,不受設置場合限制。
(4)主要污染物COD、BOD有效降解,無二次污染。
(5)高效生物脫氮功能。
(6)操作管理方便,易于實現自動控制。
(7)運行費用低。

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