GS1200-PECVD等離子化學氣象沉積
設備介紹： 本設備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)。
主要特點：
1、通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。
2、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。
3、可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小。
4、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。
5、廣泛應用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。
開啟式管式爐技術參數 |
石英管尺寸 | Φ100*L1200mm |
加熱元件 | 電阻絲 |
測溫元件 | N型熱電偶 |
加熱區/恒溫區 | 440mm/200mm |
工作溫度 | ≤1100℃ |
控溫模式 | PID控制和自整定調節，智能化30段可編程控制 |
控溫精度 | ±1℃ |
電功率 | AC220V/50HZ/3KW |
質量供氣系統 |
標準量程 | 50-500ml/min |
壓力表測量范圍 | -0.1Mpa～0.15Mpa |
極限壓力 | 3MPa |
針閥 | 316不銹鋼 |
電功率 | AC220V/50HZ/20W |
響應時間 | 氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec |
重復精度 | ±0.2% |
真空系統參數 |
工作電電壓 | 220V±10% 50~60HZ |
功率 | 400W |
極限真空 | 4X10-1Pa |
進/排氣口口徑 | KF25 |
射頻電源 |
信號頻率 | 13.56 MHz±0.005% |
功率輸出范圍 | 5W-500W |
供電電壓 | 單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ |
整機效率 | ≥70% |
