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SemiChem 在線濃度監測儀

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產品簡介

簡要描述:我們的 SemiChem Advanced Process Monitor(SemiChem 在線濃度監測儀)是集自動取樣、分析和報告關鍵過程的定量化學濃度的化學監測系統。全面的在線化學監測可實時校正漿料成分,從而穩定控制工藝生產條件。該系統可提供分類化學濃度數據。當立即顯現時,可以快速糾正可能對產品質量產生負面影響的變化,有助于滿足更高產品產量的要求。

詳細介紹

詳情介紹

SemiChem 在線濃度監測儀

Entegris在設計和生產用于半導體制造工藝中的化學機械平坦化(CMP)漿料和配方清潔化學品的高精度分析儀器的有豐富的經驗。我們的技術旨在確保復雜混合化學品的精確一致性,并在 CMP和配方清潔工藝中實現高產量。


我們的 SemiChem Advanced Process Monitor SemiChem 在線濃度監測儀)是集自動取樣、分析和報告關鍵過程的定量化學濃度的化學監測系統。全面的在線化學監測可實時校正漿料成分,從而穩定控制工藝生產條件。該系統可提供分類化學濃度數據。當立即顯現時,可以快速糾正可能對產品質量產生負面影響的變化,有助于滿足更高產品產量的要求。


應用領域

在范圍內,我們安裝了近3000套SemiChem APM系統,用于控制金屬 CMP 濃度。它是控制CMP過氧化物的可靠的中心工具,并被證明在微電子環境中的所有濕化學應用中都具有較好的性能,包括:

·銅,鎢,阻擋層和金屬CMP

·制定清潔

·DSP+

·濕法蝕刻,氮化物蝕刻

·平底蝕刻,食人魚蝕刻

·高頻

·廢水


功能與特點


經驗證的標準電化學技術提供行業精確的監控,以保證過程化學成分和完整性
提供化學濃度數據,使漿料/化學分配系統能夠提供準確的化學濃度
在線的,接近實時檢測的系檢測揮發性化學物質的工藝偏差,防止產品質量損壞
將實驗室技術過渡到在線,實現快速準確的在線控制
堅固耐用的工業設計維持至少8500小時平均工作時間
可經受嚴峻的工業環境




規格

分析方法電位測定法,標準加成法,光度測定法
電位測量的準確性* 顯示值的±0.2%
標準添加的準確性* 顯示值的±2.0%
電位測量精度* ±0.2%相對誤差
標準添加精度* ±2.0%相對誤差
測量時間>5分鐘/次(取決于應用程序)
校準間隔 啟動時**
樣品消耗<5 mL/次
進樣量0.05-5 mL(取決于應用)
進樣溫度93°C(200°F)
耗水量<1000 mL/分析
樣品進樣/排樣<207 kPa(30 psi),0.5 L/min
1/4" OD擴口接頭,1" FPT安全殼聯軸器
去離子水138至276 kPa(20至40 psi)
2.0升/分鐘
外徑 1/4" 擴口接頭
CDA414-552 kPa(60-80 psi)
1/4" 外徑快速接頭
排水工藝:3/4“NPT重力排水管機柜:1/2“NPT重力
電源110/220 VAC,50/60 Hz,1/0.5 A現場可切換
廢氣外徑1 7/8" @ 17 CFM





























標準功能可選功能

·四個4-20 mA模擬輸出

·八個可編程繼電器

·以太網和RS232串行

·彩色觸摸屏

·單個測量單元

·綜合試劑儲存

·單個采樣點

·一個5 mL數字滴定管

·多傳感器輸入

·多個采樣點

·額外的5 mL數字滴定管

·附加傳感器

·安全聯鎖裝置

·試劑微量檢測















尺寸



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