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上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司


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多靶反應(yīng)濺射鍍膜系統(tǒng)（用于單層膜/多層膜制備 ）

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所在地區(qū)：上海上海

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

關(guān)鍵詞：?jiǎn)螌幽ぁ⒍鄬幽ぁ雽?dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號(hào)：MP600S，產(chǎn)地：歐洲，應(yīng)用：制備單層/多層金屬薄膜

詳細(xì)介紹

關(guān)鍵詞：?jiǎn)螌幽ぁ⒍鄬幽ぁ雽?dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、

                磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射

                             連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶

 

型號(hào)：MP600S，  產(chǎn)地：歐洲 ，   應(yīng)用：制備單層/多層金屬薄膜。

多靶反應(yīng)磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的設(shè)備，可用于制備單層/多層金屬薄膜等，適用于半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和微流體技術(shù)等領(lǐng)域。

反應(yīng)腔體：內(nèi)徑為600mm，高度300mm，采用電化學(xué)拋光不銹鋼

真空系統(tǒng)：采用1500 l/s低溫泵+15m3/h 干泵

                  采用薄膜真空計(jì)、潘寧/皮拉尼真空計(jì)

 

襯底尺寸：可加載4英寸襯底

                  采用電阻加熱可達(dá)500℃

                  采用K型熱電偶測(cè)溫

磁控陰極：四個(gè)6英寸磁控陰極，

                  與樣品臺(tái)的距離手動(dòng)可調(diào)（7-15cm）

                  每個(gè)陰極配備一個(gè) 圓柱形擋板，防止 污染

                  每個(gè)陰極配備一個(gè)電氣閥

                  每個(gè)陰極都可以是直流或射頻模式

陰極電源：一個(gè)300W 13.56MHz射頻電源（可以升級(jí)到2kW）

                  射頻轉(zhuǎn)換開(kāi)關(guān)可用于濺射或襯底清洗

                  一個(gè)2kW 直流電源

偏置電壓：10V-300V可調(diào)

反應(yīng)氣路：分別為Ar、N2、O2氣路，每個(gè)氣路配備MFC

 

Load Lock：采用Al合金腔體，手動(dòng)樣品傳動(dòng)臂。

                     采用主腔體干泵抽氣

 

控制系統(tǒng)：全自動(dòng)控制，半自動(dòng)和手動(dòng)模式可用

        支持多級(jí)用戶權(quán)限設(shè)置和管理
 
        支持設(shè)備遠(yuǎn)程操作、監(jiān)控、診斷和維護(hù)
       
        系統(tǒng)自動(dòng)報(bào)警及定位故障

 

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