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上海續波光電技術有限公司
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關鍵詞：單層膜、多層膜、半導體、光電子學、光子學、微機電系統、MEMS、微流體技術、磁性膜、光學膜、金屬膜、絕緣膜、半導體膜、共濺射連續沉積、進口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號：MP500S，產地：歐洲，應用：沉積AlN、Si3N4，TiN薄膜，抗腐蝕硬質膜，半導體膜，氧化物絕緣層等
關鍵詞：單層膜、多層膜、半導體、光電子學、光子學、微機電系統、MEMS、微流體技術、
磁性膜、光學膜、金屬膜、絕緣膜、半導體膜、共濺射
連續沉積、進口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶
型號：MP500S， 產地：歐洲 ， 應用：沉積AlN、Si3N4，TiN薄膜，抗腐蝕硬質膜，半導體膜，氧化物絕緣層等。
反應磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的設備，可用于制備普通金屬薄膜，氮化鋁(AlN)壓電薄膜，Si3N4薄膜，TiN薄膜，抗腐蝕硬質膜，半導體薄膜，氧化物絕緣層等，適用于半導體，光電子學，光子學，微機電系統（MEMS）和微流體技術等領域。
MP500S 配置 如下：
腔體尺寸：內徑500mm、高度400mm，電解拋光不銹鋼腔體
真空系統：采用1000l/s分子泵（可選擇低溫泵）+30m3/h機械泵
配備薄膜真空計、潘寧/皮拉尼真空計
磁控陰極：3個3英寸磁控陰極，
與樣品臺的距離手動可調（8-13cm）
每個陰極配備一個 圓柱形擋板，防止 污染
每個陰極配備一個電氣閥
每個陰極都可以是直流或射頻模式（可選）
陰極電源：一個300W 13.56MHz射頻電源（可以升級到2kW）
射頻轉換開關可用于濺射或襯底清洗
一個700W 直流電源
允許共濺射或順序濺射（可達6種材料）
反應氣路：2條氣路（Ar和另外一條），每個氣路配備MFC
Load Lock（可選）：采用Al合金腔體，手動樣品傳動臂。
采用5m3/h干泵抽氣
配帶皮拉尼真空計
控制系統：全自動控制，半自動和手動模式可用
若對我們的設備感興趣，歡迎聯系我們！
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