資料下載:PLASSYS 約瑟夫森結制備系列系統(磁控濺射,電子束蒸鍍).pdf[786KB]
資料下載:微波等離子體化學氣相沉積系統、磁控濺射、電子束蒸鍍、反應離子束刻蝕.pdf[903KB]
關鍵詞: MPCVD, MWCVD, MPACVD, MPECVD, CVD金剛石、微波等離子體化學氣相沉積系統
CVD金剛石合成設備、納米晶金剛石、單晶金剛石、single crystal diamond、SCD、
Microwave Plasma Assited/Enhanced Chemical Vapor Deposition System
型號:SSDR150, 產地:歐洲
腔體:鋁合金腔體,內含石英管反應室;可以長時間滿功率運行。
微波發生源:頻率為2.45GHz、功率為6KW,LCD數顯微波入射和反射功率。
4條氣路:分別為氫氣、甲烷、氧氣、氮氣
可以增加額外3條氣路、可以選擇氣體(B、N、P)或液體(P)摻雜。
樣品臺: 水冷,可以容納2英寸襯底;
測溫系統:采用雙色高溫計;
真空系統:干泵+分子泵。
可以選配: 光譜儀,樣品臺旋轉功能,微波發生源脈沖模式,3-4英寸樣品臺
控制系統:配套有全自動控制系統、工業電腦、必要的數據接口及操作軟件;
支持多級用戶權限設置和多用戶管理,系統支持設備的遠程操作和維護;
系統含故障報警及定位功能,能及時提示相應故障部件。
支持半自動和手動操作模式。
設備應用:具備多種用途,以滿足用戶科研需要;
適合生長雜質濃度低于1ppb的超高純度單晶,且有大量專業科技文獻佐證;
適合一次性生長厚單晶以及多種子生長;
適合金剛石摻雜(硼、磷等)研究及光學級多晶窗口生長。
工藝培訓:原廠工程師現場演示金剛石生長,包括種子選擇、種子預處理、
種子的固定及生長工藝等培訓,并現場演示單晶生長;
原廠需具有高水平和豐富的金剛石生長工藝經驗。
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