用于半導體行業(yè)的Atmax二流體噴嘴示例

精密涂層

由于可以精確地霧化和噴射少量液體，因此可以在半導體和電子元件制造過程中通過噴涂形成薄膜。
與其他噴涂系統(tǒng)相比，噴涂工藝易于控制，設(shè)備配置也很簡單。特點是從厚涂層到薄膜，一個噴嘴的條件范圍很廣。

精密設(shè)備清洗工作

由于粒徑分布很銳利，因此適合需要精確度的精確清潔。Atmax噴嘴的沖擊較小，噴射流量平緩，因為霧化所需的壓縮氣體流量小于常規(guī)噴嘴的流量。

使用*的液體劑進行涂層工作

有兩個主要組成部分。標準噴嘴材料是SUS316L，因為它具有非常簡單的組件結(jié)構(gòu)，但也可以使用適合使用環(huán)境的材料進行制造。此外，在接液部件中沒有使用O形圈。

使用細顆粒的加工工作

可以容易地連續(xù)注入含有固體成分的漿液。為了通過噴霧獲得霧化，從小孔口噴射是*的理論，但是Atmax噴嘴能夠霧化大直徑的噴射。

Atmax噴嘴AM型

Atmax噴嘴AM型可以精確地噴射極小的液體流速，并獲得平均粒徑約為5μm的細顆粒。它是一個非常小的噴嘴，可以在20到750瓦的空氣壓縮機中運行。