焦作市計算機芯片光電等離子體表面處理設備：誠峰智造

噴射型AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-RP1020-D

名稱（Name）

噴射型AP等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-APO-RP1020-D

電源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

功率（Power）

1000W/25KHz

處理高度（Processing height）

5-15mm

處理寬幅（Processing width）

20-80mm（Option）

內(nèi)部控制模式（Internal control mode）

數(shù)字控制

外部控制模式（External control mode）

RS485/RS232數(shù)字通訊口、

模擬量控制口

工作氣體（Gas）

Compressed Air （0.4mpa）

產(chǎn)品特點：可選配多種類型噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境；

具有RS485/232數(shù)字通訊口和模擬量控制口，滿足客戶多元化需求。

設備尺寸小巧，方便攜帶和移動，節(jié)省客戶使用空間；

可In-Line式安裝于客戶設備產(chǎn)線中，減少客戶投入成本；

使用壽命長，保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；

應用范圍：主要應用于電子行業(yè)的殼印刷、涂覆、點膠等前處理，屏幕的表面處理；工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉移印刷前處理等。

焦作市計算機芯片光電等離子體表面處理設備

等離子清洗機又稱等離子清洗機，或等離子表面處理機，是一種新型*，是用等離子實現(xiàn)常規(guī)清洗方法所不能達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫物質的第四態(tài)，并非一般狀態(tài)。如果給氣體足夠的能量，它就會進入等離子體狀態(tài)。等離子體中的有效成分包括離子，電子，原子，活性基團，激發(fā)態(tài)等。等離子清洗機就是利用這些活性元件的特性對樣品進行表面處理，從而達到清洗、涂布等目的。
等離子清洗作為表面改性的重要手段，在許多領域得到了廣泛的應用，與傳統(tǒng)清洗方法如超聲清洗、紫外線清洗等相比，具有以下幾方面的優(yōu)點：
在整個生產(chǎn)過程中嚴格執(zhí)行無污染標準。
等離子清洗機本身是非常環(huán)保的設備，不會產(chǎn)生任何污染，處理過程中也不會造成污染。
可以和原生產(chǎn)線聯(lián)合使用，實現(xiàn)生產(chǎn)自動化，節(jié)省人力成本。
二是穩(wěn)定效應。
等離子體清洗效果均勻穩(wěn)定，常規(guī)樣品經(jīng)*處理效果良好。
自動流水線能提高生產(chǎn)效率；
按照用戶現(xiàn)場要求，配置管路生產(chǎn)計劃，大大提高了生產(chǎn)效率。
等離子體清潔器性能*。
(1)線路技術：
高密度等離子體采用高壓勵磁電源技術，確保清洗效果。
(2)全面的安保：
防溫保護功能，超載保護功能，氣壓異常保護功能，短路故障報警保護功能，各種誤操作保護功能。
(3)*的排放技術：
特制加工、特殊結構的放電裝置，確保等離子體穩(wěn)定均勻形成。
(4)配合流水線進行生產(chǎn)：
可根據(jù)用戶現(xiàn)場需要，配置流水線作業(yè)程序，大大提高生產(chǎn)效率。
(5)高質量產(chǎn)品成分：
本機所有部件均采用國內(nèi)外通用部件，保證了設備的優(yōu)良性能。