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半導體中的雜質對電阻率的影響非常大。半導體中摻入微量雜質時，雜質原子附近的周期勢場受到干擾并形成附加的束縛狀態。

一、半導體材料工業純水設備介紹：

工業純水設備主要采用反滲透處理工藝，一般也被我們可以稱之為反滲透去離子水設備，反滲透設備是一種需要利用壓力進行反滲透（半透過）性膜的力能以壓力為推動力的反滲透膜分離科學技術，當進水中所加的壓力影響大于進水標準溶液滲透壓時，水分子不斷地提高透過膜，經過產水流道流入純水水箱，然后在一端流出水中的雜質，如大離子、有機物等，被截留在膜的進水側，然后在濃水出水端流出，從而能夠達到一個分離得到凈化水源目的。

二、半導體材料工業純水設備組成：

成套工業純水設備一般包括預處理系統，反滲透裝置，后處理系統，清洗系統和電氣控制系統等..預處理系統通常包括原水泵，石英砂過濾，活性炭過濾，樹脂過濾，軟化和其它精密的過濾器。其主要作用是可以降低原水的污染指數和余氯等其他一些雜質，達到提高反滲透的進水設計要求。預處理裝置配置系統應根據原水的具體情況。