半導體超純水制備工藝

　　超純水設備一般采用反滲透作預處理再配上去離子(EDI)裝置，利用反滲透原理，有效去除水中各種鹽份、離子、顆粒，細菌等，有著產水水質穩定、操作簡便、運行費用低、綠色環保無污染、維護方便等優點，能滿足客戶的用水需求。

　　半導體超純水制備工藝特點

　　1、設計參數準確、系統運行穩定;

　　2、儀器儀表完善，在線讀取運行數據;

　　3、設備欠壓或超壓時，可及時報警停機;

　　4、自動化程度高，減少人力投入;

　　5、設備集成度高，便于運輸與安裝。

　　半導體超純水制備工藝應用范圍

　　1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗。

　　2、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。

　　3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。

　　4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。

　　萊特萊德公司服務流程簡介

　　客戶前期詢問設備，我們會報合理的價格，然后雙方達成協議，由設計部門設計產品，可定制。

　　產品設計完成以后，生產部門盡快生產。我們安排物流公司進行發貨。

　　技術人員上門現場安裝，并培訓設備使用人員基本操作知識。

　　隨時跟蹤客戶產品使用情況和，提高解決問題效率和設備使用壽命。

　　萊特萊德公司生產超純水設備，從研發、設計、運輸、安裝、售后，全面的為客戶服務。您可提供產品設計的意見和想法，我們可按您的相應要求定制，全自動設備，您會使的安心，用的放心。