一、EDI超純水制取設備概述

EDI裝置屬于精處理水系統,一般多與反滲透(RO)配合使用，組成預處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統, 是傳統離子交換混床工藝的取代技術。EDI裝置進水要求為電阻率為0.05-0.5MΩ·cm，反滲透裝置*可以滿足要求。EDI裝置可生產電阻率高達15MΩ·cm以上的超純水。

二、EDI超純水制取設備工藝原理

EDI超純水設備又稱連續電除鹽技術，是一種超純水制造技術。它通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現水中離子的定向遷移，從而達到水的深度凈化除鹽，并同時通過水電解產生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續再生。

三、EDI超純水設備工藝流程圖如下：

工作狀態下，流經EDI單元的水中的鹽離子發生三種遷移：
離子與陰、陽樹脂發生離子交換而結合到樹脂顆粒上；
離子在電場作用下經樹脂顆粒構成的離子通道遷移；
離子經過離子交換膜遷移到濃水室，從而完成水的脫鹽過程；在一定的電流密度下，樹脂、膜、水之間的界面處因產生濃差極化而迫使水分解成H+和OH－，從而同時再生了樹脂。

四、EDI超純水設備特點

 連續運行，產水水質穩定

無需酸堿再生，利于環保

產水率高，占地面積小

操作簡單，容易實現全自動控制

性能穩定，維修工作量小

運行維護成本低

五、EDI超純水設備應用領域

電子行業如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導體、印刷線路板、液晶顯示器、光盤、計算器硬盤、集成電路芯片等清洗用水；

電力行業低壓鍋爐所需除鹽水；

醫藥行業科研大輸液、藥劑、注射劑、生化制品、人工透析用超純水；

電鍍電泳涂裝、石油、化工、冶金等工藝超純水；

光學玻璃鍍膜前清洗用超純水；