半導體超純水制備工藝

　　超純水設備是用在反滲透等水處理工藝之后，用來制取超純水的水處理設備。設備將陰、陽離子按照比例混合裝填于同一容器內，使其處理后的水質電導率可低于1uS/cm以下，出水電阻率達到10MΩ.cm以上，根據不同行業的用水要求，可將出水電阻率可控制在1-18MΩ.cm之間。

　　半導體超純水制備工藝優勢：

　　1、設備采用全自動控制裝置，具備保護、報警、自動低壓沖洗、濃水定時沖洗等功能。

　　2、預處理耗材再生循環時間短、物理強度高、耐氧化性強。

　　3、選擇性能優異的設備，以保證工藝系統的水質、水量和消耗比較優。

　　4、選用國內外生產產品均有在水處理系統中長年運行的實例，保證設備連續運轉能力。

　　半導體超純水制備工藝應用范圍

　　1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗。

　　2、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。

　　3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。

　　4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。

　　萊特萊德公司售后服務

　　(1)在保質期內，若設備在正確操作運行下，賣方負責免費更換與維修損壞件。

　　(2)在質量保證期后，賣方以優惠價格長期向買方供應備品。

　　(3)在質保期內，設計壽命小于一年的消耗品之外的部件均由賣方負責更換，賣方在詳細設計上提交易損件、備件清單。

　　(4)留駐1名服務工程師，現場跟班運行服務3天(這個會根據項目大小以及合同中簽訂的實際運行時間而定)。

　　(5)設備投運1個月后，每30天電話回訪設備運行情況。

　　(6)國內做到1小時響應，24小時內現場服務。

　　(7)急需備品備件1-6天內送到現場。

　　以上內容為產品簡介，設備運行穩定，可*再生。機械損耗小，不需要考慮設備使用時間短的問題，為企業節約成本。如果您想了解更多有關設備的詳細信息，可以關注萊特萊德或留言給小編。